Naフラックス法における三次元成長モードを活用したデバイスキラー欠陥抑制技術の開発

• 研究課題/領域番号: 25K01681
• 研究種目: 基盤研究(B)
• 配分区分: 基金
• 応募区分: 一般
• 審査区分: 小区分30010:結晶工学関連
• 研究機関: 大阪大学
• 研究代表者: 今西 正幸 大阪大学, 大学院工学研究科, 准教授 (00795487)
• 研究期間 (年度): 2025-04-01 – 2028-03-31
• 研究課題ステータス: 採択 (2025年度)
• 配分額: 18,720千円 (直接経費: 14,400千円、間接経費: 4,320千円); 2027年度: 5,850千円 (直接経費: 4,500千円、間接経費: 1,350千円); 2026年度: 5,590千円 (直接経費: 4,300千円、間接経費: 1,290千円); 2025年度: 7,280千円 (直接経費: 5,600千円、間接経費: 1,680千円)