精神的ストレスが痒みを増悪させるメカニズムの解明

• 研究課題/領域番号: 25K02561
• 研究種目: 基盤研究(B)
• 配分区分: 基金
• 応募区分: 一般
• 審査区分: 小区分51030:病態神経科学関連
• 研究機関: 順天堂大学
• 研究代表者: 吉川 宗一郎 順天堂大学, 医学部, 准教授 (10549926)
• 研究分担者: 長尾 圭 順天堂大学, 大学院医学研究科, 博士研究員 (41020366) ; 高森 建二 順天堂大学, 医学部, 特任教授 (40053144) ; 冨永 光俊 順天堂大学, 大学院医学研究科, 先任准教授 (50468592) ; 外山 扇雅 順天堂大学, 大学院医学研究科, 特任助教 (50805893)
• 研究期間 (年度): 2025-04-01 – 2028-03-31
• 研究課題ステータス: 交付 (2025年度)
• 配分額: 18,850千円 (直接経費: 14,500千円、間接経費: 4,350千円); 2027年度: 6,110千円 (直接経費: 4,700千円、間接経費: 1,410千円); 2026年度: 6,110千円 (直接経費: 4,700千円、間接経費: 1,410千円); 2025年度: 6,630千円 (直接経費: 5,100千円、間接経費: 1,530千円)
• キーワード: 神経免疫 / アトピー性皮膚炎 / 精神的ストレス / かゆみ

研究開始時の研究の概要

精神的ストレスはアトピー性皮膚炎（AD）の痒みを増悪させることが知られているが、そのメカニズムはよくわかっていない。最近の我々の研究から、ストレスによる痒みの増悪はこれまでの概念にない新しいメカニズムで起こっている可能性を突き止めた。本研究では、そのメカニズム解明を分子レベルで解明することに挑戦し、ストレス性の痒みに対する治療薬開発のための基盤研究を行う。