| 研究課題/領域番号 |
25K06659
|
|---|
| 研究種目 |
基盤研究(C)
|
| 配分区分 | 基金 |
|---|
| 応募区分 | 一般 |
|---|
| 審査区分 |
小区分09080:科学教育関連
|
|---|
| 研究機関 | 岐阜工業高等専門学校 |
|---|
研究代表者 |
羽渕 仁恵 岐阜工業高等専門学校, その他部局等, 教授 (90270264)
|
|---|
| 研究分担者 |
福永 哲也 岐阜工業高等専門学校, その他部局等, 教授 (50249794)
飯田 民夫 岐阜工業高等専門学校, その他部局等, 教授 (70377703)
白木 英二 岐阜工業高等専門学校, その他部局等, 准教授 (70633147)
|
|---|
| 研究期間 (年度) |
2025-04-01 – 2029-03-31
|
| 研究課題ステータス |
交付 (2025年度)
|
| 配分額 *注記 |
4,680千円 (直接経費: 3,600千円、間接経費: 1,080千円)
2028年度: 520千円 (直接経費: 400千円、間接経費: 120千円)
2027年度: 650千円 (直接経費: 500千円、間接経費: 150千円)
2026年度: 1,170千円 (直接経費: 900千円、間接経費: 270千円)
2025年度: 2,340千円 (直接経費: 1,800千円、間接経費: 540千円)
|
|---|
| キーワード | 半導体教育 / マスクレスフォトリソグラフィ |
|---|
| 研究開始時の研究の概要 |
本研究では、高専においてマスクレスフォトリソグラフィ（MLL）を用いた実践的な微細加工技術教育を開発し、低コストで実現できるMLLを使った半導体デバイス製造実習を確立させる。具体的にはダイオードやMOS-FETなどMLLを使って作製し、その静特性を測定しデバイス評価を行う実習や、ロジックのレイアウトを設計し、MLLを用いて回路を作製する実習を計画している。また、他機関にも展開できるように、微細加工技術をデータベース化して可視化し、実習教育のパッケージとして公開することで、半導体教育の革新とその普及を図る。
|
