垂直磁化型トンネルスピンフィルター素子を用いた垂直スピン電子流の創生と活用

• 研究課題/領域番号: 25K07833
• 研究種目: 基盤研究(C)
• 配分区分: 基金
• 応募区分: 一般
• 審査区分: 小区分21050:電気電子材料工学関連
• 研究機関: 名古屋工業大学
• 研究代表者: 壬生 攻 名古屋工業大学, 工学(系)研究科(研究院), 教授 (40222327)
• 研究分担者: 田中 雅章 名古屋工業大学, 工学(系)研究科(研究院), 准教授 (50508405)
• 研究期間 (年度): 2025-04-01 – 2028-03-31
• 研究課題ステータス: 交付 (2025年度)
• 配分額: 4,680千円 (直接経費: 3,600千円、間接経費: 1,080千円); 2027年度: 1,820千円 (直接経費: 1,400千円、間接経費: 420千円); 2026年度: 1,300千円 (直接経費: 1,000千円、間接経費: 300千円); 2025年度: 1,560千円 (直接経費: 1,200千円、間接経費: 360千円)
• キーワード: スピントロニクス / 磁性薄膜 / トンネル電流 / スピンフィルター / 垂直磁化

研究開始時の研究の概要

本研究は，垂直磁化型の「トンネルスピンフィルター効果」を室温付近で高効率に実現し，薄膜の膜面に垂直な方向のスピンをもつ電子流の生成ができる新しい素子を創生することを目的とする。このような素子の開発は，垂直磁化型への展開が進められている最新のスピントロニクスにおいて重要な要素になると期待される。高効率なフィルターの実現に成功したのちは，垂直スピン電子注入による反強磁性体の磁気異方性制御など，新しいスピン分極電子源としての活用を図っていく。