| 研究課題/領域番号 |
25K07836
|
|---|
| 研究種目 |
基盤研究(C)
|
| 配分区分 | 基金 |
|---|
| 応募区分 | 一般 |
|---|
| 審査区分 |
小区分21050:電気電子材料工学関連
|
|---|
| 研究機関 | 愛知工業大学 |
|---|
研究代表者 |
田中 浩 愛知工業大学, 工学部, 教授 (60609957)
|
|---|
| 研究期間 (年度) |
2025-04-01 – 2028-03-31
|
| 研究課題ステータス |
交付 (2025年度)
|
| 配分額 *注記 |
4,550千円 (直接経費: 3,500千円、間接経費: 1,050千円)
2027年度: 910千円 (直接経費: 700千円、間接経費: 210千円)
2026年度: 1,690千円 (直接経費: 1,300千円、間接経費: 390千円)
2025年度: 1,950千円 (直接経費: 1,500千円、間接経費: 450千円)
|
|---|
| キーワード | ウエットエッチング / アルカリ水溶液 / 黒鉛 / シリコン |
|---|
| 研究開始時の研究の概要 |
ウエットエッチングは，加工歪のない表面が得られるが，その液は平滑・高速化等の理由から高温高濃度で用いられる．これまで数％の低濃度アルカリ液を使用する持続可能なプロセスを検討し，グラファイト粉末を混合させると，高温・高濃度加工と同様の平滑・高速特性となることを見出した．
本研究では，なぜエッチング特性が変わるのか，その支配要因は何かを明確にするため，単結晶Siを用い，全方位の結晶異方性変化，液中やエッチング表面でのグラファイト挙動について，in-situ 観察を含むエッチング実験，電気化学測定，分光分析により把握し，その制御ポイントの明確化を行う．また，その知見を次世代デバイス材料へも展開する．
|
