安定化ジルコニアにおける電荷移動反応抵抗の分離法開発

• 研究課題/領域番号: 25K08321
• 研究種目: 基盤研究(C)
• 配分区分: 基金
• 応募区分: 一般
• 審査区分: 小区分26040:構造材料および機能材料関連
• 研究機関: 国立研究開発法人物質・材料研究機構
• 研究代表者: 小林 清 国立研究開発法人物質・材料研究機構, 電子・光機能材料研究センター, 主幹研究員 (90357020)
• 研究期間 (年度): 2025-04-01 – 2028-03-31
• 研究課題ステータス: 採択 (2025年度)
• 配分額: 4,680千円 (直接経費: 3,600千円、間接経費: 1,080千円); 2027年度: 910千円 (直接経費: 700千円、間接経費: 210千円); 2026年度: 1,300千円 (直接経費: 1,000千円、間接経費: 300千円); 2025年度: 2,470千円 (直接経費: 1,900千円、間接経費: 570千円)