オゾン処理と過飽和操作の工夫を組み合わせた効果で実現する結晶特性の制御と作り分け

• 研究課題/領域番号: 25K08369
• 研究種目: 基盤研究(C)
• 配分区分: 基金
• 応募区分: 一般
• 審査区分: 小区分27010:移動現象および単位操作関連
• 研究機関: 千葉工業大学
• 研究代表者: 工藤 翔慈 千葉工業大学, 工学部, 助教 (50735008)
• 研究期間 (年度): 2025-04-01 – 2028-03-31
• 研究課題ステータス: 採択 (2025年度)
• 配分額: 4,550千円 (直接経費: 3,500千円、間接経費: 1,050千円); 2027年度: 1,430千円 (直接経費: 1,100千円、間接経費: 330千円); 2026年度: 910千円 (直接経費: 700千円、間接経費: 210千円); 2025年度: 2,210千円 (直接経費: 1,700千円、間接経費: 510千円)