研究課題/領域番号 |
25K08424
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研究種目 |
基盤研究(C)
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配分区分 | 基金 |
応募区分 | 一般 |
審査区分 |
小区分28030:ナノ材料科学関連
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研究機関 | 金沢工業大学 |
研究代表者 |
谷口 昌宏 金沢工業大学, バイオ・化学部, 教授 (30250418)
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研究期間 (年度) |
2025-04-01 – 2028-03-31
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研究課題ステータス |
交付 (2025年度)
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配分額 *注記 |
4,550千円 (直接経費: 3,500千円、間接経費: 1,050千円)
2027年度: 780千円 (直接経費: 600千円、間接経費: 180千円)
2026年度: 2,340千円 (直接経費: 1,800千円、間接経費: 540千円)
2025年度: 1,430千円 (直接経費: 1,100千円、間接経費: 330千円)
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キーワード | アトムプローブ / 電界イオン顕微鏡 / イオン収率 |
研究開始時の研究の概要 |
アトムプローブは原子を一個一個イオン化してそれを質量分析によって同定する手法である。極めて検出効率の高い分析手法とされているが、原子レベルを要求される分析にあたっては、「ナノメートルスケールで見ている領域」の原子を個数単位で「いくつ検出同定できるか」が求められている。この問に実データで答えるために、アトムプローブによる測定と電界イオン顕微鏡による原子レベルでの表面観察を連動させることを行なう。即ち、アトムプローブでのイオン一個の検出ごとに分析領域の電界イオン顕微鏡像を取得することで一個一個のイオンの質量データと画像データを連携させ、局所レベルでの実イオン収率を確定することを目指す。
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