Hybrid nanostructures utilizing Al-catalyzed Si nanowire-based integration.

• 研究課題/領域番号: 25K08427
• 研究種目: 基盤研究(C)
• 配分区分: 基金
• 応募区分: 一般
• 審査区分: 小区分28030:ナノ材料科学関連
• 研究機関: 国立研究開発法人物質・材料研究機構
• 研究代表者: J. Wipakorn 国立研究開発法人物質・材料研究機構, ナノアーキテクトニクス材料研究センター, 主任研究員 (40748216)
• 研究期間 (年度): 2025-04-01 – 2028-03-31
• 研究課題ステータス: 交付 (2025年度)
• 配分額: 4,680千円 (直接経費: 3,600千円、間接経費: 1,080千円); 2027年度: 1,560千円 (直接経費: 1,200千円、間接経費: 360千円); 2026年度: 1,560千円 (直接経費: 1,200千円、間接経費: 360千円); 2025年度: 1,560千円 (直接経費: 1,200千円、間接経費: 360千円)
• キーワード: Silicon / Nanowire / Hybrid nanostructures

研究開始時の研究の概要

The development of Al-catalyzed Si nanowire (NW)-based devices utilizing hybrid nanostructure integration will be elucidated. Multi-hetero Si NW/Ge nanosheet core-shell structures for HEMTs will be pursued, along with observation of energy transfer effects from various nanodots to Si NW solar cells.