中性子スピンエコー法による薄膜の時空間評価

• 研究課題/領域番号: 25K08482
• 研究種目: 基盤研究(C)
• 配分区分: 基金
• 応募区分: 一般
• 審査区分: 小区分29020:薄膜および表面界面物性関連
• 研究機関: 大学共同利用機関法人高エネルギー加速器研究機構
• 研究代表者: 遠藤 仁 大学共同利用機関法人高エネルギー加速器研究機構, 物質構造科学研究所, 教授 (40447313)
• 研究期間 (年度): 2025-04-01 – 2028-03-31
• 研究課題ステータス: 交付 (2025年度)
• 配分額: 4,680千円 (直接経費: 3,600千円、間接経費: 1,080千円); 2027年度: 1,560千円 (直接経費: 1,200千円、間接経費: 360千円); 2026年度: 1,560千円 (直接経費: 1,200千円、間接経費: 360千円); 2025年度: 1,560千円 (直接経費: 1,200千円、間接経費: 360千円)
• キーワード: 中性子スピンエコー / 中性子非弾性散乱 / 薄膜 / 表面・界面 / 薄膜ダイナミクス

研究開始時の研究の概要

薄膜構造を調べる実験法として代表的な中性子反射率法と、中性子非弾性・準弾性散乱法の一種である中性子スピンエコー法を併せる事で、薄膜のナノメートル・ナノ秒の時空間スケールにおける構造とダイナミクスを、非破壊・非接触で同時測定する。この実験手法を用いる事で、薄膜に特異的な動的現象を原子・分子レベルで定量的に評価し、主としてダイナミクスという観点から薄膜物性を明らかにする。