高速オペランドKPFM法による固体イオン伝導界面の電荷ダイナミクスの解明

• 研究課題/領域番号: 25K08483
• 研究種目: 基盤研究(C)
• 配分区分: 基金
• 応募区分: 一般
• 審査区分: 小区分29020:薄膜および表面界面物性関連
• 研究機関: 国立研究開発法人産業技術総合研究所
• 研究代表者: 山岸 裕史 国立研究開発法人産業技術総合研究所, エネルギー・環境領域, 主任研究員 (60790582)
• 研究期間 (年度): 2025-04-01 – 2028-03-31
• 研究課題ステータス: 採択 (2025年度)
• 配分額: 4,680千円 (直接経費: 3,600千円、間接経費: 1,080千円); 2027年度: 1,300千円 (直接経費: 1,000千円、間接経費: 300千円); 2026年度: 1,430千円 (直接経費: 1,100千円、間接経費: 330千円); 2025年度: 1,950千円 (直接経費: 1,500千円、間接経費: 450千円)