刺激応答により崩壊するナノセルロース／キトサン複合ゲルを用いた薬物徐放材料の創製

• 研究課題/領域番号: 25K08764
• 研究種目: 基盤研究(C)
• 配分区分: 基金
• 応募区分: 一般
• 審査区分: 小区分35020:高分子材料関連
• 研究機関: 信州大学
• 研究代表者: 荒木 潤 信州大学, 学術研究院繊維学系, 教授 (10467201)
• 研究期間 (年度): 2025-04-01 – 2028-03-31
• 研究課題ステータス: 交付 (2025年度)
• 配分額: 4,550千円 (直接経費: 3,500千円、間接経費: 1,050千円); 2027年度: 780千円 (直接経費: 600千円、間接経費: 180千円); 2026年度: 780千円 (直接経費: 600千円、間接経費: 180千円); 2025年度: 2,990千円 (直接経費: 2,300千円、間接経費: 690千円)
• キーワード: セルロースナノウィスカー / キトサン / 架橋ゲル / 刺激応答性 / 薬物放出

研究開始時の研究の概要

過ヨウ素酸酸化により表面にホルミル基を導入したCNWsおよびキトサンの間のイミン結合形成による架橋でヒドロゲルの形成を試みる。反応の複数のパラメータ（CNWs酸化度、キトサン脱アセチル化度、キトサン分子量、混合量比）を調節することにより、ゲルが得られる至適条件の範囲を見出す。
得られたゲルが示す独自の挙動として、外部刺激による崩壊が期待される。ゲスト分子（低分子アルデヒド・アミン）の添加およびpH変化によるゲルの崩壊を調査する。内部に低分子薬剤を内包した薬剤内包ゲル、あるいはキトサン分子鎖に薬剤分子を結合した薬剤担持ゲルを調製し、外部刺激によって薬剤を放出するDDS基剤としての応用を試みる。