深紫外光による閉鎖系光化学シリカ変成機構の解明と3Dマイクロシリカ構造基盤創成

• 研究課題/領域番号: 25K08777
• 研究種目: 基盤研究(C)
• 配分区分: 基金
• 応募区分: 一般
• 審査区分: 小区分35030:有機機能材料関連
• 研究機関: 九州大学
• 研究代表者: 興 雄司 九州大学, システム情報科学研究院, 教授 (10243908)
• 研究分担者: 吉岡 宏晃 九州大学, システム情報科学研究院, 准教授 (20706882) ; 陳 静涵 九州大学, システム情報科学研究院, 助教 (11020694)
• 研究期間 (年度): 2025-04-01 – 2028-03-31
• 研究課題ステータス: 交付 (2025年度)
• 配分額: 4,680千円 (直接経費: 3,600千円、間接経費: 1,080千円); 2027年度: 910千円 (直接経費: 700千円、間接経費: 210千円); 2026年度: 1,430千円 (直接経費: 1,100千円、間接経費: 330千円); 2025年度: 2,340千円 (直接経費: 1,800千円、間接経費: 540千円)
• キーワード: シリコーン / シリカ / マイクロ構造 / 深紫外光

研究開始時の研究の概要

代表者が初めて確認した、新規材料である共重合体PDMSに172nm深紫外光を照射することで、表層より数ミクロン以上をシリカ化していくプロセスについて、
①外部からの酸素共有を不要とし、固体状態の前駆体を構成する酸素を用いてシリカ化が可能セあることを確認し、そのプロセスの最適条件を与える構成比及び照射所条件などを明らかにする。②プロセス最適化を受けて、前駆体である共重合体PDMSの前処理加工を組みあわせることで、2.5次元や３次元の自由なインプリントやインクジェットによるシリカ化デバイスを実現するプラットフォーム研究を行う。③前駆体の最適設計の為の知見を明らかにする。