流体表現，半透明画材向けのストローク転写技術

• 研究課題/領域番号: 25K15140
• 研究種目: 基盤研究(C)
• 配分区分: 基金
• 応募区分: 一般
• 審査区分: 小区分60090:高性能計算関連
• 研究機関: 拓殖大学
• 研究代表者: 藤堂 英樹 拓殖大学, 工学部, 准教授 (30576517)
• 研究期間 (年度): 2025-04-01 – 2028-03-31
• 研究課題ステータス: 採択 (2025年度)
• 配分額: 2,860千円 (直接経費: 2,200千円、間接経費: 660千円); 2027年度: 650千円 (直接経費: 500千円、間接経費: 150千円); 2026年度: 650千円 (直接経費: 500千円、間接経費: 150千円); 2025年度: 1,560千円 (直接経費: 1,200千円、間接経費: 360千円)