西陣織技術を活用したあたらしいe-テキスタイルの開発

• 研究課題/領域番号: 25K15200
• 研究種目: 基盤研究(C)
• 配分区分: 基金
• 応募区分: 一般
• 審査区分: 小区分61020:ヒューマンインタフェースおよびインタラクション関連
• 研究機関: 京都産業大学
• 研究代表者: 瀬川 典久 京都産業大学, 情報理工学部, 教授 (20305311)
• 研究分担者: 上田 香 神戸大学, 人間発達環境学研究科, 准教授 (50510583)
• 研究期間 (年度): 2025-04-01 – 2029-03-31
• 研究課題ステータス: 交付 (2025年度)
• 配分額: 4,550千円 (直接経費: 3,500千円、間接経費: 1,050千円); 2028年度: 1,300千円 (直接経費: 1,000千円、間接経費: 300千円); 2027年度: 1,300千円 (直接経費: 1,000千円、間接経費: 300千円); 2026年度: 1,300千円 (直接経費: 1,000千円、間接経費: 300千円); 2025年度: 650千円 (直接経費: 500千円、間接経費: 150千円)
• キーワード: e-テキスタイル / 金彩

研究開始時の研究の概要

本研究は、研究代表者が行ってきた金属箔を活用した回路生成技術と日本の織物技術を用い、デザイン性を生かした、新しいe-テキスタイルを提案し実装することである。また、提案したe-テキスタイルを活用した、新しいIoT機器を創造することで、本手法の有効性を示すことである。

1)西陣織技術を活用したe-テキスタイル用布の開発: 京都西陣で長年培われてきた、西陣織技術を活用したe-テキスタイル用布の開発を行う。

2)シルクスクリーン型銀ナノペースト素材の食品型3Dプリンタによる回路作成:デジタルファブリケーションで利用されているノズル排出技術を転用し、西陣織の布地に回路を迅速に制作する技術開発を行う。