ヒ素と紫外線の複合曝露によるDNA損傷機構の解明と予防・治療法開発

• 研究課題/領域番号: 25K15457
• 研究種目: 基盤研究(C)
• 配分区分: 基金
• 応募区分: 一般
• 審査区分: 小区分63030:化学物質影響関連
• 研究機関: 芝浦工業大学
• 研究代表者: 矢嶋 伊知朗 芝浦工業大学, システム理工学部, 教授 (80469022)
• 研究期間 (年度): 2025-04-01 – 2028-03-31
• 研究課題ステータス: 交付 (2025年度)
• 配分額: 4,680千円 (直接経費: 3,600千円、間接経費: 1,080千円); 2027年度: 910千円 (直接経費: 700千円、間接経費: 210千円); 2026年度: 1,430千円 (直接経費: 1,100千円、間接経費: 330千円); 2025年度: 2,340千円 (直接経費: 1,800千円、間接経費: 540千円)
• キーワード: DNA損傷 / ヒ素 / 紫外線

研究開始時の研究の概要

全世界で2億人以上の人々がヒ素汚染された井戸水を飲用水として利用し、多くの人々が「皮膚がん」を含む中毒症状を示し、極めて重大な問題となっている。紫外線もまた、皮膚がんを誘発する「どこにでもある」環境因子であり、それにより毎年200－300万人が皮膚がんを発症している。ヒ素と紫外線、両者とも世界中で皮膚がん発症を誘発する強力な因子であるにもかかわらず、両方に同時に曝露する複合曝露の研究は殆ど行われていない。
本研究では複合曝露による、特にDNA損傷レベルの増加メカニズムを解明するとともに、DNA損傷レベルを減少させる新規低分子化合物を用いた、発がんの予防・治療への有用性を検証することを目的とする。