研究課題
基盤研究(C)
本研究は不安定核や医療用RI等の二次粒子を効率的に生成できる加速器の実現を目指し、シンクロトロンに正イオンビームを高効率で入射する新たな手法を確立することを目的とする。本研究では、ビーム入射の過程で生じる物理現象に関する実験値を取得し、新しいビーム入射方式で用いる理論式や半経験式、シミュレーションコードの物理的妥当性や信頼性について知見を得ることを目的とする。