高度な細胞接着制御を実現する機能性高分子ナノコート界面の創製

• 研究課題/領域番号: 25K15919
• 研究種目: 基盤研究(C)
• 配分区分: 基金
• 応募区分: 一般
• 審査区分: 小区分90120:生体材料学関連
• 研究機関: 東京女子医科大学
• 研究代表者: 中山 正道 東京女子医科大学, 医学部, 講師 (00338980)
• 研究期間 (年度): 2025-04-01 – 2028-03-31
• 研究課題ステータス: 交付 (2025年度)
• 配分額: 4,680千円 (直接経費: 3,600千円、間接経費: 1,080千円); 2027年度: 1,690千円 (直接経費: 1,300千円、間接経費: 390千円); 2026年度: 1,690千円 (直接経費: 1,300千円、間接経費: 390千円); 2025年度: 1,300千円 (直接経費: 1,000千円、間接経費: 300千円)
• キーワード: 温度応答性ブロック共重合体 / 高分子コーティング / 温度応答性表面 / 表面改質 / 細胞接着

研究開始時の研究の概要

温度変化で細胞を効率よく培養および剥離するために、温度応答性ブロック共重合体の物理コーティングを利用した機能性ナノ表面を検討する。ベース基材の表面特性は細胞接着に影響を及ぼすが、その機序はいまだ不明である。本研究では、表面改質の影響とその機序を明らかにしつつ、細胞接着性に関してこれを最適化する。またパターン状に表面改質した基材に温度応答性ナノ薄膜を形成し、表面改質で接着領域をプログラムする新しい細胞パターニング法についてもあわせて提案する。本研究の新概念の基づく多角的なアプローチは、学術的に独自性と創造性を有しており、従来技術の欠点を克服するブレークスルーが期待できる。