| 研究課題/領域番号 |
25K17835
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| 研究種目 |
若手研究
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| 配分区分 | 基金 |
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| 審査区分 |
小区分26030:複合材料および界面関連
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| 研究機関 | 東京科学大学 |
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研究代表者 |
CHIU WANTING 東京科学大学, 物質理工学院, 准教授 (10835870)
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| 研究期間 (年度) |
2025-04-01 – 2028-03-31
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| 研究課題ステータス |
交付 (2025年度)
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| 配分額 *注記 |
4,680千円 (直接経費: 3,600千円、間接経費: 1,080千円)
2027年度: 1,040千円 (直接経費: 800千円、間接経費: 240千円)
2026年度: 1,170千円 (直接経費: 900千円、間接経費: 270千円)
2025年度: 2,470千円 (直接経費: 1,900千円、間接経費: 570千円)
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| キーワード | Ni-Mn-Ga / 強磁性形状記憶合金 / 形状記憶合金 / 磁性材料 / 複合材料 |
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| 研究開始時の研究の概要 |
Ni-Mn-Ga合金は磁気冷却やアクチュエータ等に広く利用されている。本研究はで、具体的には(1)外部応力・磁場印加を用いた熱処理によるNi-Mn-Ga合金粒子の形態とバリアントの制御、(2)形状記憶トレーニングおよび粒子・軟磁性材料の複合化による駆動磁場の低減と変形歪みの増大（理論変形歪みは5.6%）、(3)材料科学計算と材料設計に基づき、複合材料（シリコーンゴム層）の制御による弾性拘束の緩和、の三項目に取り組む。また、材料の諸課題を解決するために、基礎的な冶金学・金属工学に着目し、形状記憶トレーニング工程と複合化設計の方針の策定、および理論-実験による弾性拘束の定量化・最適化を行う。
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