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ナノ機能界面のトポロジカル磁気テクスチャのデバイス機能の創出

研究課題

研究課題/領域番号 25K17939
研究種目

若手研究

配分区分基金
審査区分 小区分29010:応用物性関連
研究機関早稲田大学

研究代表者

ZHANG XICHAO  早稲田大学, 理工学術院, 次席研究員(研究院講師) (50984936)

研究期間 (年度) 2025-04-01 – 2028-03-31
研究課題ステータス 交付 (2025年度)
配分額 *注記
4,810千円 (直接経費: 3,700千円、間接経費: 1,110千円)
2027年度: 650千円 (直接経費: 500千円、間接経費: 150千円)
2026年度: 1,040千円 (直接経費: 800千円、間接経費: 240千円)
2025年度: 3,120千円 (直接経費: 2,400千円、間接経費: 720千円)
キーワードスピントロニクス / トポロジカル磁気テクスチャ / スキルミオン / Spintronics / Skyrmion
研究開始時の研究の概要

In this project, we will study the complex physics of the flow and transport phenomena of topological spin textures interacting with artificially nanostructured functional interfaces and surfaces. We will design novel spintronic devices based on topological spin textures in nanostructured materials.

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公開日: 2025-04-17   更新日: 2025-06-20  

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