研究課題
基盤研究(A)
本研究では、半導体ナノワイヤを利用した次世代高移動度トランジスタ用チャネル実現のための研究を実験および理論の両面から行った。超並列計算機の京を利用したオーダーN法第一原理計算により、約3万原子からなるSi/GeおよびGe/Si内部の電子状態を明らかにした。計算で得た知見に基づき高真空CVD装置により、急峻な界面を持つSi/GeおよびGe/Siコアシェルナノワイヤの成長制御および位置制御ドーピング技術を確立し、コアシェルヘテロ接合を構築することで不純物散乱のない高移動度チャネルが実現できていることを実験的に初めて実証した。
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すべて 国際共同研究 (4件) 雑誌論文 (18件) (うち国際共著 4件、 査読あり 18件、 謝辞記載あり 9件、 オープンアクセス 1件) 学会発表 (39件) (うち国際学会 21件、 招待講演 10件) 備考 (5件)
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