研究課題
基盤研究(B)
炭化ケイ素(SiC)中の単一光子源(SPS)となる発光中心の探索、及びSPSであるシリコン(Si)空孔(Vsi)の導入に関する研究を推進した。構造未同定ではあるがSiC表面に高輝度なSPSが形成できること、更に、550C以上の酸素処理を行うとSPSの発光が安定することを明らかにした。また、pnダイオードや金属-酸化膜-半導体電界効果トランジスタ中にSPSが形成できることを確認した。加えて、MeV級の加速エネルギーを用いた陽子線描画(PBW)を用いることで、照射後にアニール等の処理をしなくても任意の位置にVsiを形成できること、及びVsiの生成収率が照射量の10%程度であることを明らかにした。
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すべて 国際共同研究 (5件) 雑誌論文 (9件) (うち国際共著 7件、 査読あり 9件、 謝辞記載あり 9件、 オープンアクセス 2件) 学会発表 (22件) (うち国際学会 10件、 招待講演 4件) 備考 (2件)
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