| 研究課題/領域番号 |
26289017
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| 研究種目 |
基盤研究(B)
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| 配分区分 | 一部基金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
生産工学・加工学
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| 研究機関 | 大阪大学 |
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研究代表者 |
森田 瑞穂 大阪大学, 工学(系)研究科(研究院), 教授 (50157905)
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| 研究分担者 |
川合 健太郎 大阪大学, 工学(系)研究科(研究院), 助教 (90514464)
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| 連携研究者 |
足達 健二 大阪大学, 大学院工学研究科, 招へい教授 (60521739)
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| 研究期間 (年度) |
2014-04-01 – 2017-03-31
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| 研究課題ステータス |
完了 (2016年度)
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| 配分額 *注記 |
16,510千円 (直接経費: 12,700千円、間接経費: 3,810千円)
2016年度: 5,070千円 (直接経費: 3,900千円、間接経費: 1,170千円)
2015年度: 5,330千円 (直接経費: 4,100千円、間接経費: 1,230千円)
2014年度: 6,110千円 (直接経費: 4,700千円、間接経費: 1,410千円)
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| キーワード | 半導体表面 / フッ素化剤 / 三次元形状 / 光エッチング / ナノマイクロ加工 |
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| 研究成果の概要 |
プロジェクター縮小光学系を使用し、N-フルオロピリジニウム塩を用いた光エッチングにより、シリコン表面に凸型球面形状を形成した。プロジェクター縮小光学系を使用した光エッチングを用い、縦方向曲げ構造を有するシリコン光導波路を形成し、曲げ構造による横方向導波路を通った光の縦方向伝送を実証した。多光束干渉系を開発し、三光束干渉系を用いた光エッチングにより、格子状のシリコン表面テクスチャを形成した。
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