高静水圧処理による環境負荷の少ない微細構造の洗浄方法に関する研究

• 研究課題/領域番号: 26340079
• 研究種目: 基盤研究(C)
• 配分区分: 基金
• 応募区分: 一般
• 研究分野: 環境材料・リサイクル
• 研究機関: 創価大学
• 研究代表者: 清水 昭夫 創価大学, 理工学部, 教授 (20235641)
• 研究期間 (年度): 2014-04-01 – 2017-03-31
• 研究課題ステータス: 完了 (2016年度)
• 配分額: 4,680千円 (直接経費: 3,600千円、間接経費: 1,080千円); 2016年度: 1,040千円 (直接経費: 800千円、間接経費: 240千円); 2015年度: 1,560千円 (直接経費: 1,200千円、間接経費: 360千円); 2014年度: 2,080千円 (直接経費: 1,600千円、間接経費: 480千円)
• キーワード: 高静水圧 / 洗浄 / 微細構造 / 高静水圧処理 / モールド / ナノインプリント / 付着樹脂 / 加圧処理 / 圧力処理 / 樹脂 / 静水圧

研究成果の概要

モールドと呼ばれる微細構造を持った金型を樹脂に押しつけ微細構造を簡易に低コストで量産できるナノインプリントという加工技術が注目されている。この有用な方法でも転写を繰り返すと樹脂がモールドに付着してしまう問題が指摘されている。そこで本研究では従来の方法よりもより効果的にモールドに付着した樹脂を除去する方法として高静水圧処理検討した。その結果、効率的な除去条件を決定できたとともにそのメカニズムの解明を行うことができた。

研究成果

• [学会発表] モールドの微細構造に付着したUV硬化樹脂の効率的除去条件に関する研究 (2016)
  • 著者名/発表者名: 南出拓真, 梶原勇太, 清水昭夫
  • 学会等名: 第57回高圧討論会
  • 発表場所: 筑波.大学
  • 年月日: 2016-10-26
• [学会発表] Removal of adhered UV-curable resin to the microstructure of mold by high hydrostatic pressure treatment (2015)
  • 著者名/発表者名: T. Minamide, Y. Kajiwara and A. Shimizu
  • 学会等名: The 2015 International Chemical Congress of Pacific Basin Societies (Pacifichem)
  • 発表場所: Honolulu, Hawaii (USA)
  • 年月日: 2015-12-15
  • 国際学会
• [学会発表] モールドの微細構造に付着した樹脂除去条件に関する研究 (2015)
  • 著者名/発表者名: 南出拓真，梶原勇太，清水昭夫
  • 学会等名: 第56回高圧討論会
  • 発表場所: JMSアステールプラザ（広島）
  • 年月日: 2015-11-10
• [備考] 高静水圧処理による環境負荷の少ない微細構造の洗浄方法に関する研究
  • URL: http://shimizulab.wixsite.com/soka-shimizu-lab/untitled-lqp6w
• [備考] 創価大学理工学部 共生創造理工学科 物性化学研究室（清水研究室） 研究費
  • URL: http://shimizulab.wix.com/soka-shimizu-lab#!about-1/ckik
• [備考] 創価大学理工学部 共生創造理工学科 物性化学研究室（清水研究室） 研究費
  • URL: http://shimizulab.wix.com/soka-shimizu-lab#!about-1/ckik