| 研究課題/領域番号 |
26390042
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| 研究種目 |
基盤研究(C)
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| 配分区分 | 基金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
ナノマイクロシステム
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| 研究機関 | 鶴岡工業高等専門学校 |
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研究代表者 |
田中 浩 鶴岡工業高等専門学校, その他部局等, 教授 (60609957)
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| 研究期間 (年度) |
2014-04-01 – 2017-03-31
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| 研究課題ステータス |
完了 (2016年度)
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| 配分額 *注記 |
5,070千円 (直接経費: 3,900千円、間接経費: 1,170千円)
2016年度: 520千円 (直接経費: 400千円、間接経費: 120千円)
2015年度: 1,170千円 (直接経費: 900千円、間接経費: 270千円)
2014年度: 3,380千円 (直接経費: 2,600千円、間接経費: 780千円)
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| キーワード | シリコン / ウエットエッチング / グリーン化 / 低濃度 / マイクロピラミッド / グリーンプロセス / 高速エッチング / 平滑エッチング / 極低濃度エッチング液 / 界面活性剤作用 |
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| 研究成果の概要 |
自動車等に多く使われているシリコン半導体センサを製造するために，高温で高濃度のアルカリ水溶液を使ったエッチング加工が使われている．我々は今後の環境にやさしい加工方法を構築するために，非常に薄い濃度でのエッチングが可能かを検討した．従来は濃度が薄くなると加工面が粗くなり，使用できないといわれていたが，今回，エアーバブリングを行う，また界面活性剤をエッチング液中に添加することで，平滑なエッチングが可能なことを明らかにした．今後は，エッチング速度と平滑さの両立が図れる方法の検討を進めて行く．
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