| 研究課題/領域番号 |
26390064
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| 研究種目 |
基盤研究(C)
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| 配分区分 | 基金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
薄膜・表面界面物性
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| 研究機関 | 電気通信大学 |
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研究代表者 |
鈴木 勝 電気通信大学, 大学院情報理工学研究科, 教授 (20196869)
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| 研究分担者 |
佐々木 成朗 電気通信大学, 大学院情報理工学研究科, 教授 (40360862)
三浦 浩治 愛知教育大学, 教育学部, 教授 (50190583)
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| 研究期間 (年度) |
2014-04-01 – 2018-03-31
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| 研究課題ステータス |
完了 (2017年度)
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| 配分額 *注記 |
4,940千円 (直接経費: 3,800千円、間接経費: 1,140千円)
2016年度: 1,040千円 (直接経費: 800千円、間接経費: 240千円)
2015年度: 1,300千円 (直接経費: 1,000千円、間接経費: 300千円)
2014年度: 2,600千円 (直接経費: 2,000千円、間接経費: 600千円)
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| キーワード | ナノトライボロジー / 動摩擦 / エネルギー散逸 / エネルギー散逸像 / ナノ摩擦 / AFM-QCM |
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| 研究成果の概要 |
本研究は，エネルギー散逸像とトポ像の同時測定によりナノ接触面での表面構造や表面分子の運動性と動摩擦のエネルギー散逸の関係を明らかにすることを目的とする。本研究により，(1)HOPGのステップ構造の動摩擦のエネルギー散逸はすべり距離が格子定数以上で増加すること，(2)MoS2のアイランド構造の摩擦力は構造サイズがマイクロメートル以下で減少すること，(3)Au表面の動摩擦のエネルギー散逸は温度依存性を示すこと，が明らかになった。以上の研究から，ナノ接触面での摩擦は表面構造と表面分子の運動性が重要であること，特に表面微細加工による摩擦フォノンを閉じ込めを利用し低摩擦を実現できる可能性を示された。
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