| 研究課題/領域番号 |
26390093
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| 研究種目 |
基盤研究(C)
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| 配分区分 | 基金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
光工学・光量子科学
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| 研究機関 | 防衛大学校(総合教育学群、人文社会科学群、応用科学群、電気情報学群及びシステム工 |
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研究代表者 |
大越 昌幸 防衛大学校(総合教育学群、人文社会科学群、応用科学群、電気情報学群及びシステム工, 電気情報学群, 教授 (70283497)
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| 研究期間 (年度) |
2014-04-01 – 2017-03-31
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| 研究課題ステータス |
完了 (2016年度)
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| 配分額 *注記 |
5,070千円 (直接経費: 3,900千円、間接経費: 1,170千円)
2016年度: 1,040千円 (直接経費: 800千円、間接経費: 240千円)
2015年度: 1,560千円 (直接経費: 1,200千円、間接経費: 360千円)
2014年度: 2,470千円 (直接経費: 1,900千円、間接経費: 570千円)
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| キーワード | フッ素レーザー / アルゴンフッ素エキシマレーザー / シリコーン / ポリカーボネート / 光化学表面改質 / シリカガラス / クラック抑制 / 超撥水性 / ArFエキシマレーザー / 微細隆起構造 / シリカ微小球 / 空気層 / クラック / エキシマランプ / 微細誘起構造 / 表面改質 / 微細周期構造 |
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| 研究成果の概要 |
波長157 nmのF2レーザーを用い、ポリカーボネート上に形成されたシリコーンを光化学的にSiO2に改質する際、ミクロンサイズのメッシュマスクを試料表面に設置することにより、SiO2改質層を細分化した。その結果、改質層のクラック発生を抑制しながら、膜厚を約1.3ミクロンまで厚くでき、表面硬度を約2.8 GPaまで高くすることができた。
またシリコーン表面に、直径2.5ミクロンのシリカ微小球を単層で整列させ、波長193 nmのArFレーザーを照射することにより、微細隆起構造を2.5ミクロン間隔で均一に形成できることを見出した。その結果、水との接触角は155度以上を示し超撥水性の発現に成功した。
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