| 研究課題/領域番号 |
26390124
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| 研究種目 |
基盤研究(C)
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| 配分区分 | 基金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
量子ビーム科学
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| 研究機関 | 公益財団法人高輝度光科学研究センター |
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研究代表者 |
増永 啓康 公益財団法人高輝度光科学研究センター, 利用研究促進部門, 研究員 (50398468)
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| 研究分担者 |
山崎 裕史 公益財団法人高輝度光科学研究センター, 光源・光学系部門, 副主幹研究員 (60416386)
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| 研究期間 (年度) |
2014-04-01 – 2017-03-31
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| 研究課題ステータス |
完了 (2016年度)
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| 配分額 *注記 |
4,680千円 (直接経費: 3,600千円、間接経費: 1,080千円)
2016年度: 650千円 (直接経費: 500千円、間接経費: 150千円)
2015年度: 1,300千円 (直接経費: 1,000千円、間接経費: 300千円)
2014年度: 2,730千円 (直接経費: 2,100千円、間接経費: 630千円)
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| キーワード | マイクロビーム / 極小角X線散乱 / Si単結晶 / 寄生散乱 / 小角X線散乱 / X線光子相関分光法 / 結晶 |
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| 研究成果の概要 |
Si単結晶を用いた寄生散乱除去法を開発し、マイクロビーム極小角X線散乱を行うための装置を製作した。この装置を利用することにより、従来観測できなかった数マイクロメートル領域における数百ナノメートルの構造を散乱法により評価できるようになった。また、SPring-8 BL03XUにて共用装置として一般に利用された。企業ユーザーによってゴム材料の不均一性評価、動的構造評価などに利用された。
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