| 研究課題/領域番号 |
26420078
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| 研究種目 |
基盤研究(C)
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| 配分区分 | 基金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
設計工学・機械機能要素・トライボロジー
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| 研究機関 | 鳥取大学 |
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研究代表者 |
小野 勇一 鳥取大学, 工学(系)研究科(研究院), 教授 (50335501)
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| 研究分担者 |
森戸 茂一 島根大学, 総合理工学研究科, 准教授 (00301242)
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| 研究期間 (年度) |
2014-04-01 – 2017-03-31
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| 研究課題ステータス |
完了 (2016年度)
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| 配分額 *注記 |
4,940千円 (直接経費: 3,800千円、間接経費: 1,140千円)
2016年度: 780千円 (直接経費: 600千円、間接経費: 180千円)
2015年度: 3,250千円 (直接経費: 2,500千円、間接経費: 750千円)
2014年度: 910千円 (直接経費: 700千円、間接経費: 210千円)
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| キーワード | 応力測定 / 金属疲労 / 実験応力解析 / 応力・ひずみ計測 / めっき法 / 電子線後方散乱回折法 / 疲労 |
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| 研究成果の概要 |
電着によりニッケル薄膜とニッケル合金薄膜を作製した．再結晶温度はニッケル薄膜よりもニッケル合金薄膜のほうが高いことが確認できた．また，繰返し負荷試験では，250℃の雰囲気温度においてニッケル薄膜に発生した成長粒子の密度と結晶方位を利用すれば応力が測定できることが明らかとなった．一方，ニッケル合金薄膜では，350℃の雰囲気温度で粒子の成長を確認できたが，応力を測定するための較正式の導出には至らなかった．
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