| 研究課題/領域番号 |
26420151
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| 研究種目 |
基盤研究(C)
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| 配分区分 | 基金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
熱工学
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| 研究機関 | 大分大学 |
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研究代表者 |
岩本 光生 大分大学, 工学部, 准教授 (80232718)
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| 研究期間 (年度) |
2014-04-01 – 2017-03-31
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| 研究課題ステータス |
完了 (2016年度)
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| 配分額 *注記 |
3,510千円 (直接経費: 2,700千円、間接経費: 810千円)
2016年度: 650千円 (直接経費: 500千円、間接経費: 150千円)
2015年度: 1,040千円 (直接経費: 800千円、間接経費: 240千円)
2014年度: 1,820千円 (直接経費: 1,400千円、間接経費: 420千円)
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| キーワード | 対流伝熱 / チョクラルスキー法 / 液体金属 / 回転磁場 / 電流－磁場印加 / 超音波ドップラー法 / 数値シミュレーション / 対流 / 回転磁場印加 / 導電性流体 / 数値解析 / 垂直磁場－電流印加 / 流れの測定 / 超音波パドップラー法 |
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| 研究成果の概要 |
チョクラルスキー法で作成する半導体用シリコン単結晶の高品位化を目的とし、ルツボ内の導電性融液の流れを精密に制御するため、回転磁場印加や、垂直磁場印加下で融液に電流をながす電流－磁場印加による流れの制御効果について、モデル実験と数値解析により検討を行った。この結果従来の静磁場印加に対し、回転磁場による磁束密度や磁場回転数の変化は、電流－磁場印加での場磁束密度や印加電流の変化は、数ｍT～数十ｍTの弱い磁束密度でも、結晶回転方向の流れを逆転できる強い流れの制御効果があり、またこれによる周方向流れにより、軸方向流れの制御も可能なことがわかった。
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