研究課題/領域番号 |
26420270
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研究種目 |
基盤研究(C)
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配分区分 | 基金 |
応募区分 | 一般 |
研究分野 |
電子・電気材料工学
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研究機関 | 静岡大学 |
研究代表者 |
立岡 浩一 静岡大学, 工学部, 教授 (40197380)
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連携研究者 |
早川 邦夫 静岡大学, 工学部, 教授 (80283399)
早川 泰弘 静岡大学, 電子工学研究所, 教授 (00115453)
池田 浩也 静岡大学, 工学部, 准教授 (00262882)
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研究期間 (年度) |
2014-04-01 – 2017-03-31
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研究課題ステータス |
完了 (2016年度)
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配分額 *注記 |
3,770千円 (直接経費: 2,900千円、間接経費: 870千円)
2016年度: 910千円 (直接経費: 700千円、間接経費: 210千円)
2015年度: 1,040千円 (直接経費: 800千円、間接経費: 240千円)
2014年度: 1,820千円 (直接経費: 1,400千円、間接経費: 420千円)
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キーワード | シリサイド / 化学気相成長法 / 結晶成長 / ナノワイヤ / ナノシート / ナノ構造制御 / 熱電素子 / 自然エネルギー / 金属酸化物 |
研究成果の概要 |
Siナノワイヤの断面形状制御,ナノワイヤからナノシート(ナノベルト)への形状制御可能なプロセスを確立した.CrSi2, MnSi1.7及びMg2Siのナノシート束を作製した.CaSi2粉末又はSi基板上に成長させたCaSi2マイクロウォールより金属塩化物を用いCaを脱離させる事によりSiナノシート束を作製した.またIP6を用いてCaSi2よりCaを脱離した.これらナノシート束においてフォトルミネッセンスの測定より量子閉じ込め効果が現れる事が示された.熱電デバイスへの応用を試みている.さらにテンプレートして他のII属金属シリサイドや他の酸性水溶液を用いCaを脱離しSi系ナノ構造を作製した.
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