研究課題/領域番号 |
26420736
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研究種目 |
基盤研究(C)
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配分区分 | 基金 |
応募区分 | 一般 |
研究分野 |
材料加工・組織制御工学
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研究機関 | 富山大学 |
研究代表者 |
佐伯 淳 富山大学, 大学院理工学研究部(工学), 教授 (50221255)
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研究協力者 |
橋爪 隆
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研究期間 (年度) |
2014-04-01 – 2017-03-31
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研究課題ステータス |
完了 (2016年度)
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配分額 *注記 |
4,940千円 (直接経費: 3,800千円、間接経費: 1,140千円)
2016年度: 780千円 (直接経費: 600千円、間接経費: 180千円)
2015年度: 1,300千円 (直接経費: 1,000千円、間接経費: 300千円)
2014年度: 2,860千円 (直接経費: 2,200千円、間接経費: 660千円)
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キーワード | イットリア安定化ジルコニア / セリア / 酸化チタン / 電気化学堆積法 / パルス電場印可 / 水溶液 / 析出形態 / パターニング / 部分安定化ジルコニア / パルス電圧印加 / 薄膜形成 / 線状パターニング / 縞状析出 / 薄膜 / 外部刺激 / 定在波 |
研究成果の概要 |
イットリア安定化ジルコニア(YSZ)やセリアは、高温におけるイオン伝導性と室温付近における強度や絶縁性により用途が多い。これらの成膜法としてより環境負荷が小さい手法が求められている。本研究では、従来の電気化学堆積法と違い、成膜電圧の印加方向に対して別方向からパルス電圧を印加して成膜を行った。この方法によりパルス印可によって生じた定在波を利用して基板上にマスク等を用いず周期的な線状の堆積することが可能となった。その線状膜の間隔とパルス電圧周波数の関係性を調査し、パルス電圧印加時における成膜メカニズムを解明することで電気化学堆積法における成膜形態の制御のおよびパターニング技術の向上を目指した。
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