in-situ XAFS分析システムによるめっき皮膜／基板界面の化学状態解明

• 研究課題/領域番号: 26420741
• 研究種目: 基盤研究(C)
• 配分区分: 基金
• 応募区分: 一般
• 研究分野: 材料加工・組織制御工学
• 研究機関: 九州大学
• 研究代表者: 杉山 武晴 九州大学, シンクロトロン光利用研究センター, 准教授 (80391994)
• 研究期間 (年度): 2014-04-01 – 2017-03-31
• 研究課題ステータス: 完了 (2016年度)
• 配分額: 5,200千円 (直接経費: 4,000千円、間接経費: 1,200千円); 2016年度: 1,170千円 (直接経費: 900千円、間接経費: 270千円); 2015年度: 1,170千円 (直接経費: 900千円、間接経費: 270千円); 2014年度: 2,860千円 (直接経費: 2,200千円、間接経費: 660千円)
• キーワード: 無電解めっき / UV処理 / in-situ XAFS / 放射光 / 硬X線 / 皮膜／基板界面

研究成果の概要

絶縁性基板上でUV照射による基板表面改質法を組み合わせて成膜された無電解（電解）めっき皮膜についてXAFS測定を行った。AgのL3吸収端（3.35 keV）のスペクトルでは、試料条件による顕著な変化は確認されなかったものの、試料の最表面には酸化層の存在が示唆された。また、試料の加熱処理が可能なin-situ XAFS分析システムを開発した。He置換下において4 keV以下のX線を利用する転換電子収量法および部分蛍光収量法でのXAFS測定が可能である。

研究成果

• [学会発表] 九州大学硬X線ビームライン（SAGA-LS/BL06）における XAFS/SAXS利用研究 (2015)
  • 著者名/発表者名: 杉山 武晴
  • 学会等名: SPring-8シンポジウム サテライトミーティング ソフト界面科学研究会
  • 発表場所: 九州大学（伊都キャンパス）
  • 年月日: 2015-09-14
• [学会発表] 九州大学硬X線ビームライン（SAGA-LS/BL06）の概況および XAFS/SAXSによる利用研究 (2015)
  • 著者名/発表者名: 杉山 武晴
  • 学会等名: 日本分析化学会第64年会 X線分析研究懇談会
  • 発表場所: 九州大学（伊都キャンパス）
  • 年月日: 2015-09-09
  • 招待講演