| 研究課題/領域番号 |
26420765
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| 研究種目 |
基盤研究(C)
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| 配分区分 | 基金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
化工物性・移動操作・単位操作
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| 研究機関 | 金沢大学 (2016)
広島大学 (2014-2015) |
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研究代表者 |
春木 将司 金沢大学, 機械工学系, 准教授 (90432682)
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| 研究分担者 |
滝嶌 繁樹 広島大学, 工学研究院, 教授 (10188120)
木原 伸一 広島大学, 工学研究院, 准教授 (30284524)
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| 研究期間 (年度) |
2014-04-01 – 2017-03-31
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| 研究課題ステータス |
完了 (2016年度)
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| 配分額 *注記 |
5,070千円 (直接経費: 3,900千円、間接経費: 1,170千円)
2016年度: 910千円 (直接経費: 700千円、間接経費: 210千円)
2015年度: 1,170千円 (直接経費: 900千円、間接経費: 270千円)
2014年度: 2,990千円 (直接経費: 2,300千円、間接経費: 690千円)
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| キーワード | ポリイミド / 超臨界二酸化炭素 / 微細加工 / 重合速度 / 高圧蒸着重合 / 蒸着重合 / 薄膜 |
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| 研究成果の概要 |
超臨界二酸化炭素を利用した新しい蒸着重合技術の基板構築に取り組んだ。その結果、フッ素系モノマーである2,2-bis(3,4-anhydrodicarboxyphenyl)-hexafluoropropane（6FDA）と2,2’-bis(trifluoromethyl)-4,4’-diaminobiphenyl（TFDB）よりなるフッ素系ポリイミドならびにpyromellitic dianhydride（PMDA）とTFDBの組み合わせであるカプトン系―フッ素系ポリイミドを、モノマー供給濃度を高くすることでSiウエハ上に形成したマイクロスケールのトレンチ内部に充填することができた。
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