| 研究課題/領域番号 |
26600048
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| 研究種目 |
挑戦的萌芽研究
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| 配分区分 | 基金 |
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| 研究分野 |
ナノ材料工学
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| 研究機関 | 早稲田大学 |
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研究代表者 |
坂上 知 早稲田大学, 理工学術院, 准教授 (60615681)
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| 連携研究者 |
水上 誠 山形大学, 大学院理工学研究科, 准教授 (70625524)
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| 研究期間 (年度) |
2014-04-01 – 2016-03-31
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| 研究課題ステータス |
完了 (2015年度)
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| 配分額 *注記 |
4,030千円 (直接経費: 3,100千円、間接経費: 930千円)
2015年度: 1,300千円 (直接経費: 1,000千円、間接経費: 300千円)
2014年度: 2,730千円 (直接経費: 2,100千円、間接経費: 630千円)
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| キーワード | 有機トランジスタ / イオン液体 / フッ素系界面活性剤 / フッ素系ポリマー / フォトレジスト / ナノ材料 / 電気電子材料 |
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| 研究成果の概要 |
塗布によって低コストかつ簡便に微細な電極配線や有機半導体をナノスケールでパターニングするための基盤技術を確立し、塗布型高性能トランジスタの作製を目的とした。塗布パターニングのための新たな基盤技術として、撥液性のフッ素系ポリマーを微細加工するためのフォトレジストを開発し、基板上に親撥処理を施す技術を確立した。金属あるいは半導体インクは、基板の親液部分にのみに形成され、微細なパターンが形成可能なことを確認した。またこの技術を100 ppi のディスプレイのバックプレーン回路の作製へと応用し、産業化にも充分に適用可能な技術であることを示した。
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