| 研究課題/領域番号 |
26600075
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| 研究種目 |
挑戦的萌芽研究
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| 配分区分 | 基金 |
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| 研究分野 |
応用物性
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| 研究機関 | 九州大学 |
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研究代表者 |
寺西 亮 九州大学, 工学(系)研究科(研究院), 准教授 (70415941)
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| 連携研究者 |
井上 昌睦 九州大学, 大学院システム情報科学研究院, 准教授 (80346824)
山田 和広 九州大学, 工学研究院, 技術専門職員 (90380609)
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| 研究期間 (年度) |
2014-04-01 – 2016-03-31
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| 研究課題ステータス |
完了 (2015年度)
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| 配分額 *注記 |
3,900千円 (直接経費: 3,000千円、間接経費: 900千円)
2015年度: 1,170千円 (直接経費: 900千円、間接経費: 270千円)
2014年度: 2,730千円 (直接経費: 2,100千円、間接経費: 630千円)
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| キーワード | 超伝導体 / インクジェット / 薄膜 / 溶液プロセス / 形状制御 / 溶液塗布 / イットリウム系 / 溶液塗布法 / 任意形状 |
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| 研究成果の概要 |
インクジェットプリンターの印刷技術を利用して、YBa2Cu3Oy超伝導薄膜中に磁束ピン止め点を任意形状で配列導入することを試みた。超伝導体およびハフニウムピン止め点の原料溶液をカートリッジに充填して、パソコンの描画ソフトで塗布形態を設計してプリンターから原料溶液を基板上に塗布し、熱処理を施して試料を作製した。
電子顕微鏡による観察からピン止め点が設計と同様の形態で基板上に塗布されていることが示され、インクジェットプリンターによる配列塗布の有用性が示された。また、元素分布解析やX線回折による結晶相の同定から、ピン止め点として有効なBaHfO3やHfO2が膜中に生成していることも確認できた。
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