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InGaNの非混和性を積極的に利用したDERI法による転位の不活性化

研究課題

研究課題/領域番号 26600090
研究種目

挑戦的萌芽研究

配分区分基金
研究分野 結晶工学
研究機関立命館大学

研究代表者

名西 やす之  立命館大学, 理工学部, 授業担当講師 (40268157)

研究分担者 荒木 努  立命館大学, 理工学部, 教授 (20312126)
連携研究者 須田 淳  京都大学, 大学院工学研究科, 准教授 (00293887)
赤坂 哲也  日本電信電話株式会社, NTT物性科学基礎研究所・機能物質科学研究部, 主任研究員 (90393735)
山口 智広  工学院大学, 先進工学部, 准教授 (50454517)
研究期間 (年度) 2014-04-01 – 2017-03-31
研究課題ステータス 完了 (2016年度)
配分額 *注記
4,030千円 (直接経費: 3,100千円、間接経費: 930千円)
2016年度: 1,170千円 (直接経費: 900千円、間接経費: 270千円)
2015年度: 1,170千円 (直接経費: 900千円、間接経費: 270千円)
2014年度: 1,690千円 (直接経費: 1,300千円、間接経費: 390千円)
キーワードInN / InGaN / 窒化物半導体 / 混晶組成 / 極微領域評価 / MBE / 転位 / リーク電流 / 不活性化
研究成果の概要

InGaNは青色発光ダイオードの活性層として利用されているが、In組成を増やし緑、赤、さらに赤外領域の発光、受光デバイスに利用しようとすると、転位などの影響が顕著となり、特性が著しく劣化する。 本研究では、研究代表者が中心になって独自に開発した高品質InN結晶成長技術(DERI法)を利用して、InGaNの非混和性を積極的に利用し、転位近傍にバンドギャップの広い極微ナノ構造を作成し、転位の影響を抑制して、InNおよび全混晶組成のInGaNをデバイスとして利用するための検討を行った。コンダクティブAFMを用いてナノ領域のリーク電流を測定する手法により、リーク電流の抑制を確認する成果を得た。

報告書

(4件)
  • 2016 実績報告書   研究成果報告書 ( PDF )
  • 2015 実施状況報告書
  • 2014 実施状況報告書
  • 研究成果

    (51件)

すべて 2017 2016 2015 2014

すべて 雑誌論文 (8件) (うち国際共著 2件、 査読あり 8件、 オープンアクセス 6件) 学会発表 (43件) (うち国際学会 24件、 招待講演 7件)

  • [雑誌論文] Influence of Defects and Indium Distribution on Emission Properties of Thick In-Rich InGaN Layers Grown by the DERI Technique2017

    • 著者名/発表者名
      D. Dobrovolskas, J. Mickevicius, S. Nargelas, A. Vaitkevicius, Y. Nanishi, T. Araki, G. Tamulaitis
    • 雑誌名

      Semiconductor Science and Technology

      巻: 32 号: 2 ページ: 025012-025012

    • DOI

      10.1088/1361-6641/32/2/025012

    • 関連する報告書
      2016 実績報告書
    • 査読あり / オープンアクセス / 国際共著
  • [雑誌論文] Surface and Bulk Electronic Structures of Heavily Mg-doped InN Epilayer by Hard X-ray Photoelectron Spectroscopy2017

    • 著者名/発表者名
      M. Imura, S. Tsuda, T. Nagata, R. G. Banal, H. Yoshikawa, A. Yang, Y. Yamashita, K. Kobayashi, Y. Koide, T. Yamaguchi, M. Kaneko, N. Uematsu, K. Wang, T. Araki, and Y. Nanishi
    • 雑誌名

      J. Appl. Phys.

      巻: 121 号: 9 ページ: 095703-095703

    • DOI

      10.1063/1.4977201

    • 関連する報告書
      2016 実績報告書
    • 査読あり / オープンアクセス / 国際共著
  • [雑誌論文] Optical properties of Ga<sub>0.82</sub>In<sub>0.18</sub>N <i>p</i>-<i>n</i> homojunction blue-green light-emitting-diode grown by radio-frequency plasma-assisted molecular beam epitaxy2015

    • 著者名/発表者名
      T. Onuma, K. Narutani, S. Fujioka, T. Yamaguchi, K. Wang, T. Araki, Y. Nanishi, L. Sang, M. Sumiya and T. Honda
    • 雑誌名

      Transactions of the Materials Research Society of Japan

      巻: 40 号: 2 ページ: 149-152

    • DOI

      10.14723/tmrsj.40.149

    • NAID

      130005089534

    • ISSN
      1382-3469, 2188-1650
    • 関連する報告書
      2015 実施状況報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] InN NanoColumns Grown by Molecular Beam Epitaxy and Their Luminescence Properties2015

    • 著者名/発表者名
      K. Wang, T. Araki, T. Yamaguchi, Y.T. Chen, E. Yoon, Y. Nanishi
    • 雑誌名

      Journal of Crystal Growth

      巻: 430 ページ: 93-97

    • DOI

      10.1016/j.jcrysgro.2015.07.027

    • 関連する報告書
      2015 実施状況報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Effect of Mg doping on the structural and free-charge carrier properties of InN films2014

    • 著者名/発表者名
      M.-Y. Xie, N. Ben Sedrine, S. Schöche, T. Hofmann, M. Schubert, L. Hung, B. Monemar, X. Wang, A. Yoshikawa, K. Wang, T. Araki, Y. Nanishi and V. Darakchieva
    • 雑誌名

      J. Appl. Phys

      巻: 115 号: 16 ページ: 163504-163504

    • DOI

      10.1063/1.4871975

    • 関連する報告書
      2014 実施状況報告書
    • 査読あり / オープンアクセス
  • [雑誌論文] Radio-Frequency Plasma-Excited Molecular Beam Epitaxy Growth of GaN on Graphene/Si(100) Substrates2014

    • 著者名/発表者名
      T. Araki, S. Uchimura, J. Sakaguchi, Y. Nanishi, T. Fujishima, A. Hsu, K. Kim, T. Palacios,
    • 雑誌名

      Applied Physics Express

      巻: 7 号: 7 ページ: 071001-071001

    • DOI

      10.7567/apex.7.071001

    • NAID

      210000137149

    • 関連する報告書
      2014 実施状況報告書
    • 査読あり / オープンアクセス
  • [雑誌論文] Free-Charge Carrier Parameters of N-Type, P-Type and Compensated InN:Mg Determined by Infrared Spectroscopic Ellipsometry2014

    • 著者名/発表者名
      S. Schoche, T. Hofmann, V. Darakchieva, X. Wang, A. Yoshikawa, K. Wang, Y. Nanishi, M. Schubert,
    • 雑誌名

      Thin Solid Films

      巻: 571 ページ: 384-388

    • DOI

      10.1016/j.tsf.2014.01.051

    • 関連する報告書
      2014 実施状況報告書
    • 査読あり / オープンアクセス
  • [雑誌論文] Effects of TMSb Overpressure on InSb Surface Morphology for InSb Epitaxial Growth Using Low Pressure Metalorganic Chemical Vapor Deposition2014

    • 著者名/発表者名
      S. Park, J. Jung, C. Seok, K. Shin, S. Park, Y. Nanishi, Y. Park, E. Yoon
    • 雑誌名

      Journal of Crystal Growth

      巻: 401 ページ: 518-522

    • DOI

      10.1016/j.jcrysgro.2013.10.062

    • 関連する報告書
      2014 実施状況報告書
    • 査読あり / オープンアクセス
  • [学会発表] Evaluation of Nitride Semiconductors Using Terahertz Time-Domain Spectroscopic Ellipsometry2017

    • 著者名/発表者名
      T. Araki, K. Tachi, K. Morino, S. Asagami, T. Fujii, Y. Nanishi, T. Nagashima, T. Iwamoto, Y. Sato, N. Morita, R. Sugie, S. Kamiyama
    • 学会等名
      The 5th International Conference on Light-Emitting Devices and Their Industrial Applications (LEDIA '17)
    • 発表場所
      パシフィコ横浜(神奈川県・横浜市)
    • 年月日
      2017-04-20
    • 関連する報告書
      2016 実績報告書
    • 国際学会 / 招待講演
  • [学会発表] RF-MBE法によるグラファイト上へのInN成長2017

    • 著者名/発表者名
      荒川真吾、久保中湧士、毛利真一郎、荒木努、名西やす之
    • 学会等名
      2017年春季第64回応用物理学会学術講演会
    • 発表場所
      パシフィコ横浜(神奈川県・横浜市)
    • 年月日
      2017-03-17
    • 関連する報告書
      2016 実績報告書
  • [学会発表] THzエリプソメトリーによるInN薄膜の電気的特性測定に関する検討2017

    • 著者名/発表者名
      森野 健太,達 紘平,藤井 高志,毛利 真一郎,荒木 努,名西 やす之,長島 健,岩本 敏志,佐藤 幸徳
    • 学会等名
      2017年春季第64回応用物理学会学術講演会
    • 発表場所
      パシフィコ横浜(神奈川県・横浜市)
    • 年月日
      2017-03-16
    • 関連する報告書
      2016 実績報告書
  • [学会発表] DERI法を用いたサファイア上N極性InN成長2017

    • 著者名/発表者名
      久保中 湧士,毛利真一郎,荒木 努,名西 やす之
    • 学会等名
      2017年春季第64回応用物理学会学術講演会
    • 発表場所
      パシフィコ横浜(神奈川県・横浜市)
    • 年月日
      2017-03-14
    • 関連する報告書
      2016 実績報告書
  • [学会発表] TEM Study of InN Films Grown with In-situ Surface Reformation by Radical Beam Irradiation2017

    • 著者名/発表者名
      Faizulsalihin bin Abas,Nur Liyana binti Zainol Abidin,藤田 諒一,毛利 真一郎,荒木 努,名西 やす之
    • 学会等名
      2017年春季第64回応用物理学会学術講演会
    • 発表場所
      パシフィコ横浜(神奈川県・横浜市)
    • 年月日
      2017-03-14
    • 関連する報告書
      2016 実績報告書
  • [学会発表] Nラジカルビーム照射によるin-situ表面改質のInN成長への効果2017

    • 著者名/発表者名
      藤田諒一,Faizulsalihin bin Abas,Nur Liyana binti Zainol Abidin,毛利真一郎,荒木努,名西やす之
    • 学会等名
      2017年春季第64回応用物理学会学術講演会
    • 発表場所
      パシフィコ横浜(神奈川県・横浜市)
    • 年月日
      2017-03-14
    • 関連する報告書
      2016 実績報告書
  • [学会発表] α-Ga2O3の表面バンドベンディングの評価2017

    • 著者名/発表者名
      藤木嘉樹, 城川潤二郎, 荒木努, 名西やす之, 織田真也
    • 学会等名
      2017年春季第64回応用物理学会学術講演会
    • 発表場所
      パシフィコ横浜(神奈川県・横浜市)
    • 年月日
      2017-03-14
    • 関連する報告書
      2016 実績報告書
  • [学会発表] In-Situ Monitoring in RF-MBE Growth of In-Based Nitrides2016

    • 著者名/発表者名
      T. Yamaguchi, T. Sasaki, M. Takahashi, T. Araki, T. Onuma, T. Honda, Y. Nanishi
    • 学会等名
      15th International Symposium on Advanced Technology
    • 発表場所
      Tainan City (Taiwan)
    • 年月日
      2016-11-10
    • 関連する報告書
      2016 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] Characterization of Electrical Properties of n-type GaN Layer Using Terahertz Time-Domain Spectroscopic Ellipsometry2016

    • 著者名/発表者名
      K. Tachi, S. Asagami, T. Fujii, T. Nagashima, T. Iwamoto, Y. Sato, N. Morita, R. Sugie, S. Kamiyama, T. Araki and Y. Nanishi
    • 学会等名
      International Workshop on Nitride Semiconductor 2016 (IWN2016)
    • 発表場所
      Orlando, Florida (USA)
    • 年月日
      2016-10-05
    • 関連する報告書
      2016 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] Surface and Bulk Electronic Structures of Heavily Mg-doped InN Epilayer by Hard X-ray Photoelectron Spectroscopy2016

    • 著者名/発表者名
      M. Imura, S. Tsuda, T. Nagata, A. Yang, Y. Yamashita, H. Yoshikawa, Y. Koide, K. Kobayashi, T. Yamaguchi, M. Kaneko, N. Uematsu, K. Wang, T. Araki, and Y. Nanishi
    • 学会等名
      International Workshop on Nitride Semiconductor 2016 (IWN2016)
    • 発表場所
      Orlando, Florida (USA)
    • 年月日
      2016-10-04
    • 関連する報告書
      2016 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] Atomic Level C-AFM Characterization of GaN Grown Under Spiral Mode2016

    • 著者名/発表者名
      K. Komura, T. Araki, Y. Nanishi, T. Akasaka
    • 学会等名
      International Workshop on Nitride Semiconductor 2016 (IWN2016)
    • 発表場所
      Orlando, Florida (USA)
    • 年月日
      2016-10-04
    • 関連する報告書
      2016 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] Study on Microstructure and Thermal Stability of Rf-Plasma Nitridated α-(AlGa)2O3 Grown by Mist-CVD2016

    • 著者名/発表者名
      A. Buma, N. Masuda, T. Araki, Y. Nanishi, M. Oda, T. Hitora
    • 学会等名
      International Workshop on Nitride Semiconductor 2016 (IWN2016)
    • 発表場所
      Orlando, Florida (USA)
    • 年月日
      2016-10-03
    • 関連する報告書
      2016 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] RF-MBE Growth of GaInN Ternary Alloys Using in-situ Monitoring Techniques2016

    • 著者名/発表者名
      T. Yamaguchi, T. Sasaki, M. Takahashi, T. Araki, T. Onuma, T. Honda and Y. Nanishi
    • 学会等名
      2016 International Conference on Solid State Devices and Materials
    • 発表場所
      つくば国際会議場(茨城県・つくば市)
    • 年月日
      2016-09-28
    • 関連する報告書
      2016 実績報告書
    • 国際学会 / 招待講演
  • [学会発表] フッ素プラズマによるInNの表面電荷蓄積層の影響軽減に関する研究2016

    • 著者名/発表者名
      福島駿介 , 臼田知志 , 荒木努, 名西やす之
    • 学会等名
      2016年秋季 第77回応用物理学会学術講演会
    • 発表場所
      朱鷺メッセ(新潟県・新潟市)
    • 年月日
      2016-09-16
    • 関連する報告書
      2016 実績報告書
  • [学会発表] Recent Advancements and Challenges of Growth of InN and In-rich InGaN by DERI Method2016

    • 著者名/発表者名
      Y. Nanishi, T. Yamaguchi and T. Araki
    • 学会等名
      EMN Meeting on Epitaxy
    • 発表場所
      Budapest (Hungary)
    • 年月日
      2016-09-07
    • 関連する報告書
      2016 実績報告書
    • 国際学会 / 招待講演
  • [学会発表] Study on Nitridation of α-(AlGa)2O3 Using Rf Plasma for AlGaN Growth2016

    • 著者名/発表者名
      A. Buma, N. Masuda, T. Araki, Y. Nanishi, M. Oda, T. Hitora
    • 学会等名
      The 18th International Conference on Crystal Growth and Epitaxy (ICCGE-18)
    • 発表場所
      名古屋国際会議場(愛知県・名古屋市)
    • 年月日
      2016-08-09
    • 関連する報告書
      2016 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] Characterization of GaN Layer Using THz Ellipsometry and Its Verification by Cross-Sectional Observation2016

    • 著者名/発表者名
      K. Tachi, S. Asagami, T. Fujii, T. Nagashima, T. Iwamoto, Y. Sato, N. Morita, R. Sugie, S. Kamiyama, T. Araki and Y. Nanishi
    • 学会等名
      The 18th International Conference on Crystal Growth and Epitaxy (ICCGE-18)
    • 発表場所
      名古屋国際会議場(愛知県・名古屋市)
    • 年月日
      2016-08-09
    • 関連する報告書
      2016 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] Strain Relaxation Analysis Using In-situ X-ray Reciprocal Space Mapping Measurements in RF-MBE Growth of GaInN2016

    • 著者名/発表者名
      T. Yamaguchi, T. Sasaki, M. Takahashi, T. Onuma, T. Honda, Y. Nanishi
    • 学会等名
      The 18th International Conference on Crystal Growth and Epitaxy (ICCGE-18)
    • 発表場所
      名古屋国際会議場(愛知県・名古屋市)
    • 年月日
      2016-08-09
    • 関連する報告書
      2016 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] Characterization of β-Ga2O3 Single Crystal Based Schottky Barrier Diode2016

    • 著者名/発表者名
      Y. Fujiki, T. Araki, Y. Moon, A. Kim and Y. Nanishi
    • 学会等名
      35th Electronic Materials Symposium
    • 発表場所
      ラフォーレ琵琶湖(滋賀県・守山市)
    • 年月日
      2016-07-08
    • 関連する報告書
      2016 実績報告書
  • [学会発表] Study on Nitridation of α-(AlGa)2O3 Using Rf Plasma for AlGaN Growth2016

    • 著者名/発表者名
      A. Buma, N. Masuda, M. Oda, T. Hitora, T. Araki and Y. Nanishi
    • 学会等名
      35th Electronic Materials Symposium
    • 発表場所
      ラフォーレ琵琶湖(滋賀県・守山市)
    • 年月日
      2016-07-07
    • 関連する報告書
      2016 実績報告書
  • [学会発表] Fluorine Plasma Treatment on InN Films Grown by RF-MBE2016

    • 著者名/発表者名
      S. Fukushima, S. Usuda, T. Araki and Y. Nanishi
    • 学会等名
      35th Electronic Materials Symposium
    • 発表場所
      ラフォーレ琵琶湖(滋賀県・守山市)
    • 年月日
      2016-07-07
    • 関連する報告書
      2016 実績報告書
  • [学会発表] Characterization of III-Nitride Semiconductors Using Electron-Beam-Induced-Current (EBIC) Measurement2016

    • 著者名/発表者名
      E. Oku, T. Araki and Y. Nanishi
    • 学会等名
      35th Electronic Materials Symposium
    • 発表場所
      ラフォーレ琵琶湖(滋賀県・守山市)
    • 年月日
      2016-07-07
    • 関連する報告書
      2016 実績報告書
  • [学会発表] Recent Advancement of Growth of InN and In-rich InGaN by RF-MBE2016

    • 著者名/発表者名
      Y. Nanishi, T. Yamaguchi and T. Araki
    • 学会等名
      45th International School on the Physics of Semiconducting Compounds
    • 発表場所
      Szczyrk (Poland),
    • 年月日
      2016-06-20
    • 関連する報告書
      2015 実施状況報告書
    • 国際学会 / 招待講演
  • [学会発表] RF-MBE法によるGaN/Sapphire上へのMgドーピングGaN成長2016

    • 著者名/発表者名
      藤田諒一, 松田雅大, 荒木努, 名西やす之
    • 学会等名
      第8回窒化物結晶成長講演会
    • 発表場所
      京都大学(京都府・京都市)
    • 年月日
      2016-05-09
    • 関連する報告書
      2016 実績報告書
  • [学会発表] フッ素プラズマによるInNの表面電荷蓄積層の影響軽減に関する研究2016

    • 著者名/発表者名
      福島駿介,臼田知志,荒木努,名西やす之
    • 学会等名
      第8回窒化物結晶成長講演会
    • 発表場所
      京都大学(京都府・京都市)
    • 年月日
      2016-05-09
    • 関連する報告書
      2016 実績報告書
  • [学会発表] THzエリプソメトリーによるn型GaN膜の電気的特性評価2016

    • 著者名/発表者名
      達紘平,浅上史歩,藤井高志,荒木努,名西やす之,長島健,岩本敏志,佐藤幸徳,森田直威,杉江隆一,上山智
    • 学会等名
      第8回窒化物結晶成長講演会
    • 発表場所
      京都大学(京都府・京都市)
    • 年月日
      2016-05-09
    • 関連する報告書
      2016 実績報告書
  • [学会発表] Dislocation Passivation by Positive Usage of Phase Separation During InGaN Growth by DERI Method2015

    • 著者名/発表者名
      Y. Nanishi, T. Yamaguchi and T. Araki
    • 学会等名
      Collaborative Conference on Crystal Growth (3CG)
    • 発表場所
      Hong Kong (China)
    • 年月日
      2015-12-15
    • 関連する報告書
      2015 実施状況報告書
    • 国際学会 / 招待講演
  • [学会発表] Dislocation Passivation by Positive Usage of Phase Separation During RF-MBE Growth of InGaN2015

    • 著者名/発表者名
      Y. Nanishi, T. Yamaguchi, and T. Araki,
    • 学会等名
      The 3rd International Conference on Advanced Electromaterials (ICAE2015)
    • 発表場所
      Jeju (Korea)
    • 年月日
      2015-11-18
    • 関連する報告書
      2015 実施状況報告書
    • 国際学会 / 招待講演
  • [学会発表] RF-MBE Growth and Structural Characterization of InN on Mist-CVD-grownα-In2O3/Sapphire2015

    • 著者名/発表者名
      A. Buma, N. Masuda, T. Araki, Y. Nanishi, M. Oda, and T. Hitora
    • 学会等名
      The 6th International Symposium on Growth of Ⅲ-nitrides,
    • 発表場所
      アクトシティ浜松(静岡県浜松市)
    • 年月日
      2015-11-11
    • 関連する報告書
      2015 実施状況報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] Growth and Characterization of Thin InN Films Grown by RF-MBE2015

    • 著者名/発表者名
      A. Usuda, K. Komura, M. Aranami, T. Araki, and Y. Nanishi
    • 学会等名
      The 6th International Symposium on Growth of Ⅲ-nitrides
    • 発表場所
      アクトシティ浜松(静岡県浜松市)
    • 年月日
      2015-11-11
    • 関連する報告書
      2015 実施状況報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] Comprehensive Study on Inductively Coupled Plasma Reactive Ion Etching of GaN and InN2015

    • 著者名/発表者名
      K. Narutani, T. Yamaguchi, T. Araki, Y. Nanishi, T. Onuma and T. Honda
    • 学会等名
      The 31st North American Conference on Molecular Beam Epitaxy (NAMBE 2015)
    • 発表場所
      Mayan Riviera (Mexico)
    • 年月日
      2015-10-07
    • 関連する報告書
      2015 実施状況報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] In-situ X-ray Reciprocal Space Mapping Measurements in GaInN Growth on GaN by RF-MBE2015

    • 著者名/発表者名
      T. Yamaguchi, T. Sasaki, K. Narutani, M. Sawada, R. Deki, T. Onuma, T. Honda, M. Takahasi, Y. Nanishi
    • 学会等名
      The 31st North American Conference on Molecular Beam Epitaxy (NAMBE 2015)
    • 発表場所
      Mayan Riviera (Mexico)
    • 年月日
      2015-10-07
    • 関連する報告書
      2015 実施状況報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] Idea to Passivate Dislocations by Positive Usage of Phase Separation in InGaN2015

    • 著者名/発表者名
      Y. Nanishi, T. Yamaguchi, and T. Araki
    • 学会等名
      Workshop on Frontier Photonic and Electronic Materials and Devices
    • 発表場所
      京都大学(京都府京都市)
    • 年月日
      2015-07-14
    • 関連する報告書
      2015 実施状況報告書
    • 国際学会 / 招待講演
  • [学会発表] The Role of Impurities in Raman Scattering of InN: from Thin Films to Nanowires2015

    • 著者名/発表者名
      N. Dom&egrave;nech-Amador, R. Cusc&oacute;, R. Calarco, T. Yamaguchi, Y. Nanishi, L.Art&uacute;s,
    • 学会等名
      Compound Semiconductor Week 2015
    • 発表場所
      Santa Barbara(USA)
    • 年月日
      2015-06-29
    • 関連する報告書
      2015 実施状況報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] Growth and Characterization of InN on α-In2O3/Sapphire by RF-MBE2015

    • 著者名/発表者名
      N. Masuda, A. Buma, T. Araki, Y. Nanishi, M. Oda, and T. Hitora,
    • 学会等名
      The 7th Asia-Pacific Workshop on Widegap Semiconductors
    • 発表場所
      Seoul (Korea)
    • 年月日
      2015-05-19
    • 関連する報告書
      2015 実施状況報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] Characterization of RF Plasma Nitridated α-(AlGa)2O3 for AlGaN Growth2015

    • 著者名/発表者名
      T. Araki, A. Buma, N. Masuda, M. Oda, T. Hitora, and Y. Nanishi
    • 学会等名
      The 4th International Conference on Light-Emitting Devices and Their Industrial Applications
    • 発表場所
      パシフィコ横浜(神奈川県横浜市)
    • 年月日
      2015-05-19
    • 関連する報告書
      2015 実施状況報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] Growth Mechanisms of InN and Its Alloys Using Droplet Elimination by Radical Beam Irradiation2015

    • 著者名/発表者名
      T. Yamaguchi, T. Araki, T. Onuma, T. Honda and Y. Nanishi,
    • 学会等名
      2015 EMN Meeting on Droplets
    • 発表場所
      Phuket (Thailand)
    • 年月日
      2015-05-09
    • 関連する報告書
      2015 実施状況報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] RF-MBE Growth of InN on Mist-CVD Grown α-In2O3/Sapphire2015

    • 著者名/発表者名
      T. Araki, N. Masuda, A. Buma, Y. Nanishi, M. Oda and T. Hitora
    • 学会等名
      The 3rd International Conference on Light-Emitting Devices and Their Industrial Applications
    • 発表場所
      パシフィコ横浜(神奈川県横浜市)
    • 年月日
      2015-04-23
    • 関連する報告書
      2015 実施状況報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] Progress in GaInN Growth by RF-MBE and Development to Optical Device Fabrication2015

    • 著者名/発表者名
      T. Yamaguchi, T. Araki, T. Onuma, T. Honda, Y. Nanishi
    • 学会等名
      SPIE Photonics West
    • 発表場所
      San Fransisco, USA
    • 年月日
      2015-02-09
    • 関連する報告書
      2014 実施状況報告書
  • [学会発表] New Approach to Fabricate Green, Red and IR Light Sources Based on Nitride Semiconductors by DERI Method2014

    • 著者名/発表者名
      Y. Nanishi, T.Yamaguchi and T. Araki,
    • 学会等名
      31st International Korea-Japan Seminar on Ceramics
    • 発表場所
      Changwon, Korea
    • 年月日
      2014-11-27
    • 関連する報告書
      2014 実施状況報告書
  • [学会発表] Plasma Induced Point Defects in InN During RF-MBE Growth and Those Reduction by DERI Method2014

    • 著者名/発表者名
      Y. Nanishi, T. Yamaguchi, T. Araki, A. Uedono and T. Palacios
    • 学会等名
      Defects in Semiconductors ,Gordon Research Conference,
    • 発表場所
      Walthum, USA
    • 年月日
      2014-08-05
    • 関連する報告書
      2014 実施状況報告書
  • [学会発表] Recent Material Studies of III-Nitride Semiconductors for Next Generation Devices2014

    • 著者名/発表者名
      Y. Nanishi, T. Yamaguchi, T. Araki, A. Uedono and T. Palacios,
    • 学会等名
      The Professor Harry C. Gatos Lecture and Prize
    • 発表場所
      Cambridge, USA
    • 年月日
      2014-07-24
    • 関連する報告書
      2014 実施状況報告書
  • [学会発表] DERI Method; Possible Approach to Longer Wavelength Light Emitters Based on Nitride Semiconductors2014

    • 著者名/発表者名
      Y. Nanishi, T. Yamaguchi and T. Araki
    • 学会等名
      6th Forum on New Materials (CIMTEC2014)
    • 発表場所
      Montecatini Terme, Italy
    • 年月日
      2014-06-18
    • 関連する報告書
      2014 実施状況報告書

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公開日: 2014-04-04   更新日: 2018-03-22  

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