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有機・無機ハイブリッドナノ粒子を用いた極限量子ビーム微細加工プロセスの創成

研究課題

研究課題/領域番号 26706027
研究種目

若手研究(A)

配分区分一部基金
研究分野 量子ビーム科学
研究機関大阪大学

研究代表者

山本 洋揮  大阪大学, 産業科学研究所, 助教 (00516958)

研究協力者 Belloni J.  , Prof.
Robinson A. P. G.  , Prof.
研究期間 (年度) 2014-04-01 – 2017-03-31
研究課題ステータス 完了 (2016年度)
配分額 *注記
24,310千円 (直接経費: 18,700千円、間接経費: 5,610千円)
2016年度: 4,030千円 (直接経費: 3,100千円、間接経費: 930千円)
2015年度: 4,550千円 (直接経費: 3,500千円、間接経費: 1,050千円)
2014年度: 15,730千円 (直接経費: 12,100千円、間接経費: 3,630千円)
キーワード量子ビーム / 極端紫外光リソグラフィ / 電子線リソグラフィ / 半導体微細化 / リソグラフィ / ナノ材料 / 半導体超微細化 / 放射線 / 材料加工・処理
研究成果の概要

固体有機中に多量の金属がある場合の反応を解明し、量子ビームから付与されるエネルギーを100%利用できる反応系を探索した。ポリスチレン(PS)やポリメタクリレート(PMMA)中に金属ナノ前駆対を含んだ膜に、電子線を照射することによって、有機・無機ハイブリッドのパターン形成に対する高分子の選択や線量や加熱といった合成プロセスの最適化を透過型電子顕微鏡や吸収分光法によって行い、ポリマー薄膜中での銀ナノ粒子および金ナノ粒子の形成機構を明らかにした。また、多量の金属イオンがある場合のレジストを試作し、電子線描画装置を使って有機・無機ハイブリッドナノ粒子の微細パターンの形成を行い、成功した。

報告書

(4件)
  • 2016 実績報告書   研究成果報告書 ( PDF )
  • 2015 実績報告書
  • 2014 実績報告書
  • 研究成果

    (19件)

すべて 2017 2016 2015 2014 その他

すべて 国際共同研究 (1件) 雑誌論文 (5件) (うち国際共著 1件、 査読あり 5件、 謝辞記載あり 3件) 学会発表 (13件) (うち国際学会 9件)

  • [国際共同研究] Université Paris-Sud(France)

    • 関連する報告書
      2016 実績報告書
  • [雑誌論文] Synthesis of Metal Nanoparticles and Patterning in Polymeric Films Induced by Electron Nanobeam2017

    • 著者名/発表者名
      Hiroki Yamamoto, Takahiro Kozawa, Seiichi Tagawa, Muneyuki Naito, Jean-Louis. Marignier, Mehran Mostafavi, and Jacqueline Belloni
    • 雑誌名

      J. Phys. Chem. C

      巻: 121 号: 9 ページ: 5335-5340

    • DOI

      10.1021/acs.jpcc.6b12543

    • 関連する報告書
      2016 実績報告書
    • 査読あり / 国際共著 / 謝辞記載あり
  • [雑誌論文] Controlled Array of Gold Nanoparticles by Combination of Nano Imprint and Self-assembly2016

    • 著者名/発表者名
      Hiroki Yamamoto, Akira Ohnuma, Bunsho Ohtani, Takahiro Kozawa
    • 雑誌名

      Journal of Photopolymer Science and Technology

      巻: 29 号: 5 ページ: 765-768

    • DOI

      10.2494/photopolymer.29.765

    • NAID

      130005261829

    • ISSN
      0914-9244, 1349-6336
    • 関連する報告書
      2016 実績報告書
    • 査読あり / 謝辞記載あり
  • [雑誌論文] Chemically amplified molecular resists based on noria derivatives containing adamantyl ester groups for electron beam lithography2016

    • 著者名/発表者名
      H. Yamamoto, S. Tagawa, T. Kozawa, H. Kudo, and K. Okamoto
    • 雑誌名

      J. Vac. Sci. Technol. B

      巻: 34 号: 4 ページ: 041606-041606

    • DOI

      10.1116/1.4953068

    • 関連する報告書
      2016 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Study on Dissolution Behavior of Poly(4-hydroxystyrene) as Model Polymer of Chemically Amplified Resists for Extreme Ultraviolet Lithography2015

    • 著者名/発表者名
      Masaki Mitsuyasu, Hiroki Yamamoto, Takahiro Kozawa
    • 雑誌名

      Journal of Photopolymer Science and Technology

      巻: 28 号: 1 ページ: 119-124

    • DOI

      10.2494/photopolymer.28.119

    • NAID

      130005090251

    • ISSN
      0914-9244, 1349-6336
    • 関連する報告書
      2015 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] High-aspect-ratio patterning by ClF3-Ar neutral cluster etching2015

    • 著者名/発表者名
      Hiroki Yamamoto, Toshio Sekib, Jiro Matsuoc, Kunihiko Koiked, Takahiro Kozawa
    • 雑誌名

      Microelectronic Engineering

      巻: 141 ページ: 145-149

    • DOI

      10.1016/j.mee.2015.03.006

    • 関連する報告書
      2015 実績報告書
    • 査読あり / 謝辞記載あり
  • [学会発表] Lamellar orientation of block copolymer using polarity switch of Nitrophenyl self-assembled monolayer (SAM) induced by electron beam2017

    • 著者名/発表者名
      Hiroki Yamamoto, Guy Dawson, Takahiro Kozawa, Alex P. G. Robinson
    • 学会等名
      SPIE Advanced Lithography 2017
    • 発表場所
      California, USA
    • 年月日
      2017-02-26
    • 関連する報告書
      2016 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] Study on Resist Performance of Noria Derivatives Modified with Various Protection Ratios of Acetal Moieties for EUV lithography with Various2016

    • 著者名/発表者名
      Hiroki Yamamoto, Hiroto Kudo, Takahiro Kozawa
    • 学会等名
      2016 International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography
    • 発表場所
      Hiroshima, Japan
    • 年月日
      2016-10-24
    • 関連する報告書
      2016 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] Selective Immobilization of Metal Nanoparticles Using Self-assembly Techniques2016

    • 著者名/発表者名
      Hiroki Yamamoto, Akira Ohnuma, Bunsho Ohtani, Takahiro Kozawa
    • 学会等名
      42nd Micro and Nano Engineering
    • 発表場所
      Vienna, Austria
    • 年月日
      2016-09-19
    • 関連する報告書
      2016 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] アセタール基で保護したノーリア誘導体に基づいたレジスト材料の電子線照射に対する応答性の系統的な研究2016

    • 著者名/発表者名
      山本洋揮, 工藤宏人, 古澤孝弘
    • 学会等名
      第77回応用物理学会秋季学術講演会
    • 発表場所
      新潟県新潟市
    • 年月日
      2016-09-13
    • 関連する報告書
      2016 実績報告書
  • [学会発表] Controlled Array of Gold Nanoparticles by Combination of Nano Imprint and Self-assembly2016

    • 著者名/発表者名
      Hiroki Yamamoto, Akira Ohnuma, Bunsho Ohtani, Takahiro Kozawa
    • 学会等名
      The 33th International Conference of Photopolymer Science and Technology
    • 発表場所
      Chiba, Japan
    • 年月日
      2016-06-22
    • 関連する報告書
      2016 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] Molecular Resist Materials for Extreme Ultraviolet Lithography2016

    • 著者名/発表者名
      Hiroki Yamamoto, Hiroto Kudo, and Takahiro Kozawa
    • 学会等名
      2016 International Workshop on EUV Lithography
    • 発表場所
      California, USA
    • 年月日
      2016-06-13
    • 関連する報告書
      2016 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] Radiation-induced synthesis of metal nanoparticles in ethers THF and PGMEA2015

    • 著者名/発表者名
      Hiroki Yamamoto, Takahiro Kozawa, Seiichi Tagawa,Jean-Louis Marignier,Mehran Mostafavi,Jacqueline Belloni
    • 学会等名
      Pacifichem 2015
    • 発表場所
      ハワイ (アメリカ)
    • 年月日
      2015-12-15
    • 関連する報告書
      2015 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] Study on Resist Performance of Chemically Amplified Molecular Resist based on Noria Derivative and Calixarene Derivative for EUV lithography2015

    • 著者名/発表者名
      Hiroki Yamamoto, Hiroto Kudo, Takahiro Kozawa
    • 学会等名
      2015 International EUVL Symposium
    • 発表場所
      マーストリヒト (オランダ)
    • 年月日
      2015-10-05
    • 関連する報告書
      2015 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] 微細加工技術による金属ナノ粒子の位置制御2015

    • 著者名/発表者名
      山本洋揮
    • 学会等名
      先端放射線化学シンポジウム
    • 発表場所
      浜名湖 かんざんじ荘 (静岡県 浜松市)
    • 年月日
      2015-09-29
    • 関連する報告書
      2015 実績報告書
  • [学会発表] Study on Dissolution Behavior of Poly(4-hydroxystyrene) as model Polymer of Chemically Amplified Resists for Extreme Ultraviolet Lithography2015

    • 著者名/発表者名
      Masaki Mitsuyasu, Hiroki Yamamoto, Takahiro Kozawa
    • 学会等名
      The 32nd International Conference of Photopolymer Science and Technology
    • 発表場所
      幕張メッセ (千葉県 千葉市)
    • 年月日
      2015-06-24
    • 関連する報告書
      2015 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] Study on Fusion between Electron Beam Lithography and Self-assembly for Advanced Patterning2015

    • 著者名/発表者名
      Hiroki Yamamoto, Takahiro Kozawa
    • 学会等名
      15th International Congress of Radiation Research
    • 発表場所
      国立京都国際会館 (京都府 京都市)
    • 年月日
      2015-05-25
    • 関連する報告書
      2015 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] 環状オリゴマーに基づいた化学増幅型分子レジストのレジスト性能評価に関する研究2014

    • 著者名/発表者名
      山本 洋揮
    • 学会等名
      第75回応用物理学会秋季学術講演会
    • 発表場所
      北海道大学
    • 年月日
      2014-09-17 – 2014-09-20
    • 関連する報告書
      2014 実績報告書
  • [学会発表] Radiation-induced Synthesis of Metal Nanoparticles in Ethers THF and PGMEA2014

    • 著者名/発表者名
      山本 洋揮
    • 学会等名
      The 5th Asia Pacific Symposium on Radiation Chemistry
    • 発表場所
      東京大学弥生講堂
    • 年月日
      2014-09-08 – 2014-09-11
    • 関連する報告書
      2014 実績報告書

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公開日: 2014-04-04   更新日: 2018-03-22  

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