| 研究課題/領域番号 |
26820327
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| 研究種目 |
若手研究(B)
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| 配分区分 | 基金 |
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| 研究分野 |
材料加工・組織制御工学
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| 研究機関 | 首都大学東京 |
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研究代表者 |
清水 徹英 首都大学東京, システムデザイン学部, 助教 (70614543)
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| 研究期間 (年度) |
2014-04-01 – 2016-03-31
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| 研究課題ステータス |
完了 (2015年度)
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| 配分額 *注記 |
3,900千円 (直接経費: 3,000千円、間接経費: 900千円)
2015年度: 1,430千円 (直接経費: 1,100千円、間接経費: 330千円)
2014年度: 2,470千円 (直接経費: 1,900千円、間接経費: 570千円)
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| キーワード | 表面テクスチャリング / ドライ加工 / ダイヤモンド状炭素 / マイクロ金型 / ヘテロ構造 / 耐摩耗性 / ボールオンディスク試験 / イオン化物理蒸着法 / マイクロ加工 / ダイヤモンド状炭素膜 |
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| 研究成果の概要 |
本研究では、硬質/軟質相が面内方向に規則配列された「面内ヘテロ構造」を有するテクスチャード表面を実現することで，連続摺動に伴う摩耗をパッシブに利用し，軟質相の選択的摩耗を促進させることでテクスチャ構造の自己形成化を図るものである．特に提案する面内ヘテロ構造の創製手法の確立およびその基礎摩擦・摩耗特性を解明することを研究目的とした．本研究を通して，イオン化蒸着法，酸素プラズマエッチング，プラズマCVD法を同一チャンバー内で行うことにより，面内ヘテロ構造を有するDLC膜の形成に成功した．創製した面内ヘテロ構造DLC膜における軟質相の選択的な優先摩耗挙動を明らかにし本提案手法の有効性を示した．
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