| 研究課題/領域番号 |
26861330
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| 研究種目 |
若手研究(B)
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| 配分区分 | 基金 |
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| 研究分野 |
産婦人科学
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| 研究機関 | 山口大学 |
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研究代表者 |
城崎 幸介 山口大学, 医学(系)研究科(研究院), 助教 (80721323)
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| 研究期間 (年度) |
2014-04-01 – 2016-03-31
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| 研究課題ステータス |
完了 (2015年度)
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| 配分額 *注記 |
3,770千円 (直接経費: 2,900千円、間接経費: 870千円)
2015年度: 1,430千円 (直接経費: 1,100千円、間接経費: 330千円)
2014年度: 2,340千円 (直接経費: 1,800千円、間接経費: 540千円)
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| キーワード | 脱落膜化 / ヒストン修飾 / ゲノムワイド解析 / 転写因子 / 発現制御 / オントロジー / 脱落膜化遺伝子発現制御機構解明 |
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| 研究成果の概要 |
子宮内膜間質細胞の脱落膜化における転写因子C/EBPbの遺伝子発現制御機構を解明するため、RNAシークエンスとChIPシークエンスによりゲノムワイドな解析を行った。その結果、脱落膜化過程では、C/EBPbにより2251遺伝子の発現が上方制御され、1862遺伝子の発現が下方制御されていた。上方制御されていた2251遺伝子のうち478遺伝子が、転写活性化修飾であるH3K27acの増加が認められた。478遺伝子のうちC/EBPbが結合していたのは10遺伝子のみであった。脱落膜化におけるC/EBPbによる遺伝子発現制御のひとつに、ヒストン修飾の変化を介した間接的な機構が存在することが明らかとなった。
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