| 研究課題/領域番号 |
26870610
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| 研究種目 |
若手研究(B)
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| 配分区分 | 基金 |
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| 研究分野 |
皮膚科学
生物系薬学
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| 研究機関 | 東京電機大学 |
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研究代表者 |
長原 礼宗 東京電機大学, 理工学部, 准教授 (80385484)
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| 研究期間 (年度) |
2014-04-01 – 2016-03-31
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| 研究課題ステータス |
完了 (2015年度)
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| 配分額 *注記 |
2,730千円 (直接経費: 2,100千円、間接経費: 630千円)
2015年度: 1,560千円 (直接経費: 1,200千円、間接経費: 360千円)
2014年度: 1,170千円 (直接経費: 900千円、間接経費: 270千円)
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| キーワード | カスパーゼ / スフィンゴイド塩基 / MAPキナーゼ / 皮膚 / 保湿 / 皮膚保湿 / 角化細胞 / スフィンゴイド |
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| 研究成果の概要 |
本研究ではスフィンゴイド塩基を介した皮膚保湿機能改善のしくみを明らかにすることを目指した。
まず、角化細胞に種々のスフィンゴイド塩基を作用させたところ、皮膚保湿に関与する酵素、カスパーゼ14の発現を増強させることが可能であった。このカスパーゼ14発現増強は、MAPキナーゼの一種であるJNKやp38のリン酸化亢進が関与していることが示唆された。また、スフィンゴイド塩基の塗布により、カスパーゼ14発現増強を介し皮膚保湿機能を向上できうることをin vivoにおいても明らかにできた。
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