サイクロトロン共鳴を利用したグラフェン量子ドットによる単一光子検出

• 研究課題/領域番号: 26886002
• 研究種目: 研究活動スタート支援
• 配分区分: 補助金
• 研究分野: ナノ構造物理
• 研究機関: 東京大学
• 研究代表者: 荒井 美穂 東京大学, 生産技術研究所, 特任研究員 (20738588)
• 研究期間 (年度): 2014-08-29 – 2015-03-31
• 研究課題ステータス: 完了 (2014年度)
• 配分額: 1,950千円 (直接経費: 1,500千円、間接経費: 450千円); 2014年度: 1,950千円 (直接経費: 1,500千円、間接経費: 450千円)
• キーワード: グラフェン / 量子ドット / テラヘルツ / 単一光子検出 / サイクロトロン共鳴 / AFMリソグラフィー / 赤外光検出

研究成果の概要

今年度行った研究は、(1)グラフェン微細構造を作製するため、AFM(Atomic Force Microscope)を使用した陽極酸化リソグラフィーの安定化、酸化領域における化学的性質の解明および微細構造の作製、(2)トップゲート付きh-BN(六方晶窒化ホウ素)/グラフェン/h-BN接合に赤外光を照射しサイクロトロン共鳴に伴う光起電力効果のメカニズムの解明である。

研究成果

• [雑誌論文] Fabrication of 10-nm-scale nanoconstrictions in graphene using atomic force microscopy-based local anodic oxidation lithography (2015)
  • 著者名/発表者名: M. Arai, S. Masubuchi, K. Nose, Y. Mitsuda, and T. Machida
  • 雑誌名: Japanese Journal of Applied Physics 巻: 54 号: 4S ページ: 04DJ06-04DJ06
  • DOI: 10.7567/jjap.54.04dj06
  • NAID: 210000145047
  • 査読あり / 謝辞記載あり
• [学会発表] Fabrication of 10-nm-Scale Nanoconstrictions in Graphene using AFM-Based Local Anodic Oxidation Lithography (2014)
  • 著者名/発表者名: M. Arai, S. Masubuchi, K. Nose, Y. Mitsuda, and T. Machida
  • 学会等名: 2014 International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM2014)
  • 発表場所: Tsukuba, Japan
  • 年月日: 2014-09-08 – 2014-09-11