非晶質絶縁物上への半導体単結晶薄膜の低温成長

• 研究課題/領域番号: 59750221
• 研究種目: 奨励研究(A)
• 配分区分: 補助金
• 研究分野: 電子材料工学
• 研究機関: 東京工業大学
• 研究代表者: 浅野 種正 東京工業大学, 助手
• 研究期間 (年度): 1984
• 研究課題ステータス: 完了 (1984年度)
• 配分額: 900千円 (直接経費: 900千円); 1984年度: 900千円 (直接経費: 900千円)