高真空スパタリング法を用いた薄膜超格子構造の形成

• 研究課題/領域番号: 60460070
• 研究種目: 一般研究(B)
• 配分区分: 補助金
• 研究分野: 応用物理学一般
• 研究機関: 東京大学
• 研究代表者: 金原 粲 東京大学, 工学部, 助教授
• 研究期間 (年度): 1985
• 研究課題ステータス: 完了 (1985年度)
• 配分額: 3,300千円 (直接経費: 3,300千円); 1985年度: 3,300千円 (直接経費: 3,300千円)