| 研究概要 |
ポリジメチルシロキサン(PDMS,Mn〓Mw=80×【10^3】)-炭酸ジエチル(DEC)臨界混合物の上限臨界共溶点(Tc=34.4°C,Wc=12.1wt.%)とペンタエチレングリコールドデシルエーテル(【C_(12)】【E_5】)-水(W)臨界混合物の下限臨界共溶点(Tc=31.89°C,Wc=1.20wt.%)近傍でスピノーダル分解過程を調べ、次に要約される知見を得た。
1.非イオン性界面活性剤水溶液の臨界混合物は、疎水基の長さが増すにつれて、臨界点近くの流体,臨界共溶点近くの混合液体,秩序・無秩序転移点近くの合金などの物理的体系から背離するようになる。
2.PDMS-DEC臨界混合物を圧力ジャンプ〔(〓Tc/〓P)wc=-8.85×【10^(-3)】度1気圧〕によりTc-T〜5mkにもたらすと、t【<!〜】60秒においては波数k=2.5×【10^3】〔濃度ゆらぎの波長へ(=2π/k)〜25.9μm〕で散乱光強度【I】(【R_1】t)が【I】(【R_1】t)〜【t^(1.5)】で増大し、60秒【<!〜】t【<!〜】130秒においてはk=1.6×【10^3】で【I】(【k_1】t)〜【t^(2.5)】によって散乱光強度が増大する。中期過程130秒【<!〜】t【<!〜】300秒におけるΛ(t)の時間依存は、Λ(t)〜【t^(0.3)】によって表わされる。後期過程300秒【<!〜】t【<!〜】1000秒における小粒子の平均の大きさR(t)をR(t)〜k【(t)^(-1)】で評価すると、R(t)の時間依存はR(t)〜【t^(0.7)】によって表わされる。
3.【C_(12)】【E_5】-W臨界混合物を圧力ジャンプ〔(〓Tc/〓p)Wc=11.2×【10^(-3)】度/気圧〕によってT-Tc〜1mkにもたらすと、t【<!〜】50秒においてはk=2.1×【10^3】(Λ〜29.1μm)で散乱光強度が【I】(R,t)〜【t^(2.3)】で増大し、50秒【<!〜】t【<!〜】100秒においてはk=1.5×【10^3】で【I】(k,t)〜【t^(3.4)】で増大する。後期過程150秒【<!〜】t【<!〜】500秒における小粒子の平均の大きさR(t)の時間依存は、R(t)〜【t^(0.8)】によって表わされる。
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