研究課題/領域番号 |
60550032
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研究種目 |
一般研究(C)
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配分区分 | 補助金 |
研究分野 |
応用物理学一般
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研究機関 | 大阪大学 |
研究代表者 |
加藤 義章 阪大, 国立大学(その他), 教授 (30093397)
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研究分担者 |
宮永 憲明 大阪大学, レーザー核融合研究センター, 助手 (80135756)
矢部 孝 大阪大学, レーザー核融合研究センター, 助教授 (60016665)
山下 広順 大阪大学, 理学部, 助教授 (80022622)
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研究期間 (年度) |
1985 – 1986
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研究課題ステータス |
完了 (1986年度)
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配分額 *注記 |
2,100千円 (直接経費: 2,100千円)
1986年度: 700千円 (直接経費: 700千円)
1985年度: 1,400千円 (直接経費: 1,400千円)
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キーワード | X線レーザー / レーザープラズマ / コヒーレントX線 / 多層膜X線反射鏡 / 内穀励起 |
研究概要 |
「軟X線領域におけるコヒーレント輻射の発生」に関し、研究代表者は、研究分担者及びその他の共同研究者と協力して下記の研究を行った。1.XUVレーザーに関する基礎実験2.多層膜X線反射鏡の特性評価3.レーザープラズマにおけるkeVX線発生過程に関する研究以下に各項目に対する研究成果の概要を記す。 1.高出力ガラスレーザーを励起光源として用い、XUVレーザーの自然放射増幅モードでの発振を試みた。ターゲットとしては薄膜状のパリレン(【C_8】【H_8】)、及びフォームバー(【C_5】【H_8】【O_2】)にアルミニウムを薄く蒸着したものを用いた。その結果下記の遷移においてXUV光の増幅を観測し、利得係数を決定することができた。【C^(5+)】 3d→2p (λ=182.2【A!°】) g=1.5【cm^(-1)】【O^(7+)】 3d→2p (λ=102.4【A!°】) g=3.3【cm^(-1)】【Al^(10+)】 5f→3d (λ=105.7【A!°】) g=1.1【cm^(-1)】【Al^(10+)】 5d→3p (λ=103.8【A!°】) g=0.9【cm^(-1)】 2.Mo Si多層膜(50層)の反射特性を分子研UVSORのシンクロトロン放射光を光源として測定した。その結果124【A!°】より長波長においては50%を超す反射率が得られること(124【A!°】以下ではSiの吸収により低下する)、及び屈折率の波長依存性により100【A!°】以下では実効的膜厚が短波長領域における値からずれることが示された。 3.金プラズマから発生するkeVX線の発生機構について調べ、特に内穀多重励起が関与しているかどうかに着目した。しかし上記keVX線は、高温プラズマ中で生成された約50荷のイオンが電子衡突により励起されているためと結論される。
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