| 研究課題/領域番号 |
60850032
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| 研究種目 |
試験研究
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 研究分野 |
流体工学
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| 研究機関 | 東北大学 |
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研究代表者 |
南部 健一 東北大, 高速力学研究所, 助教授 (50006194)
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| 研究分担者 |
豊元 詮 ソニー, テクトロニクスKK情報機器部, 研究員
五十嵐 三武郎 東北大学, 高速力学研究所, 助手 (60006195)
渡部 安雄 東北大学, 高速力学研究所, 助手 (20125694)
猪岡 光 東北大学, 工学部, 教授 (20006191)
TOYOMOTO A. Sony Tektronix Co. Ltd.
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| 研究期間 (年度) |
1985 – 1986
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| 研究課題ステータス |
完了 (1986年度)
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| 配分額 *注記 |
16,000千円 (直接経費: 16,000千円)
1986年度: 5,000千円 (直接経費: 5,000千円)
1985年度: 11,000千円 (直接経費: 11,000千円)
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| キーワード | 希薄気体 / 数値シミュレーション / 薄膜 / 画像処理 / 流れの可視化 / アニメーション / 希薄気体流 |
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| 研究概要 |
1.分子数密度場の静止画像表現の高速化。ハードディスクに取り込まれた大量の分子の位置座標を、ディスプレイ上に高速で表示するソフトウェアを開発した。これにより、流れ場のアニメーションをより滑らかなものにすることができた。
2.半導体薄膜製造プロセスの分子気体力学的シミュレーション。前年度に開発した中間流に対する高能率シミュレーション法を用いて、薄膜製造装置模型内での分子運動を数値解析し、さらに、開発したアニメーション・システムを用いて分子数密度場および固体壁面上での膜形成過程をアニメーションに表現した。アニメーションの観察によって、膜厚分布に及ぼすクヌーセン数および装置諸元の影響を容易に把握することができる。すなわち、本研究により開発した「希薄気体流シミュレーション用アニメーション・システム」は、半導体薄膜製造装置の設計にさいして十分実用的価値を有することを明らかにした。
3.今後の研究計画。より実際的かつ重要な三次元の希薄気体流れを動画に表現することを計画している。高精細ビデオがまだ開発されていないので、当面、分子運動を表わす16ミリ映画を製作する予定でいる。
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