| 研究課題/領域番号 |
60850069
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| 研究種目 |
試験研究
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 研究分野 |
電子機器工学
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| 研究機関 | 広島大学 |
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研究代表者 |
松村 英樹 広島大, 工学部, 助教授 (90111682)
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| 研究分担者 |
横山 新 筑波大学, 物質工学系, 講師 (80144880)
末宗 幾夫 広島大学, 工学部, 助教授 (00112178)
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| 研究期間 (年度) |
1985 – 1986
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| 研究課題ステータス |
完了 (1986年度)
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| 配分額 *注記 |
9,900千円 (直接経費: 9,900千円)
1986年度: 1,400千円 (直接経費: 1,400千円)
1985年度: 8,500千円 (直接経費: 8,500千円)
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| キーワード | 微細加工技術 / リソグラフィー / X線リソグラフィー / LSI技術 |
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| 研究概要 |
未来の微細加工技術としてX線を用いたパターン転写技術、いわゆるX線リソグラフィー技術が注目されているが、従来からの方法では、パターンの描かれた薄膜マスクにX線を透過させることによりパターン転写を行なっていたので、a)パターンマスク製作が容易でない、b)パターンの縮小転写ができない、などの問題があった。本研究においては、厚板基板上に反射率の異なる材料でパターンが描かれた"パターン反射板"にX線を当て、それからの反射X線を用いてパターンの投影転写を行なう新しい方法を提案し、その妥当性を確認することを目的とした。
まず、既存チェンバーに新たに真空排気装置を付加してX線転写露光装置を試作し、提案の方法にもとづくパターン転写の原理実験を行なった。また、X線の反射率を向上させるための多層反射膜板の機能を測定する多層反射膜測定器および関連システムを試作するとともに、X線反射率向上のための理論的検討を加えた。さらに、反射X線を投影転写するための収束ミラー系に関し理論的検討を加え、かつ市販ミラーを加工し、実際にパターンの投影転写を行なった。
その結果、1)シリコン上に金でパターンを描いたパターン反射板を用いることにより、0.9μm以下の微細線の縮小転写が可能なこと、2)2枚の多層膜ミラーを用いることにより、3mm角の領域をボケ幅0.06μm以内で1/3縮小転写ができ、かつX線波長100A程度に対してはスループットと従来法と変わらないこと、3)1板だけのミラーを用いても、12mmの幅の領域をボケ幅0.06μm以内で1/10の1次縮小転写のできること、などを明らかにし、本提案の方法の妥当性を確認した。
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