| 研究概要 |
1.PtMnSb三層膜のレーザ・アニールの研究
【10^(-7)】Torrの真空中でガラス基板上に、Sb,Mn,Ptの順に蒸着した三層膜を空気中でレーザ・アニールした。レーザパワ25mw,ビーム径2μm,パルス時間1マイクロ秒〜1ミリ秒で行った。反応は生じなかった。レーザパワ不足のためと考えられる。なお空気中の焼鈍によってPtMnSb薄膜が生成されることは、飽和磁化および力一回転角が真空中で焼鈍して作成したPtMnSb膜と変らないことから確認した。現在、1wアルゴンレーザを用いて、真空中でレーザパルス焼鈍を行っている段階である。本研究と並行して、PtMnSb三層膜を蒸着後直ちに真空中で焼鈍してPtMnSb化合物薄膜を作成し、その磁気特性および磁気光学効果を調べた。(文献1)(111)配向はするが結晶磁気異方性は小さく、面内磁化膜になってしまう。垂直磁化膜にするために、レーザパルスで柱状構造をもつPtMnSb薄膜を作成することを試みている。これに関して、柱状構造による靜磁的な垂直磁気異方性の理論的解析を行った。(文献2)
2.MnBi二層膜のレーザ・アニールの研究
空気中でMnBi二層膜のレーザアニールを行ったが、MnBi化合物は得られなかった。現在、蒸着後直ちに真空中で焼鈍できる装置の製作について検討している。
3.MnBiX三層膜のレーザ・アニールの研究
本研究に関しては、予備実験として、MnBiX三層膜の真空蒸着し、そのまま真空中で焼鈍し薄膜を作成した。XとしてはTe,Pt,Cu,Be,B,Al,Cr,Agを選んだ。MnBi薄膜におけるquenched高温相の生成を抑制することが目的であるが、これらの第3元素では抑制できなかった。研究を続行する予定である。
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