強ふく射場における反応帯の構造に関する研究

• 研究課題/領域番号: 61750169
• 研究種目: 奨励研究(A)
• 配分区分: 補助金
• 研究分野: 熱工学
• 研究機関: 東京工業大学
• 研究代表者: 花村 克悟 東京工業大学, 工学部, 助手
• 研究期間 (年度): 1986
• 研究課題ステータス: 完了 (1986年度)
• 配分額: 800千円 (直接経費: 800千円); 1986年度: 800千円 (直接経費: 800千円)